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Einzelheiten zu den Produkten

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Ziel für Metallsputtern
Created with Pixso. Hochreine Zirkoniumsputterung Zielmaterial Korrosionsbeständigkeit
Ausführliche Information
Herkunftsort:
China
Zertifizierung:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
Name:
Zirkonium-Target (Zr)
Reinheit:
99,9 %
Dichte:
6,52 g/cm³
Bildungsprozess:
Sintern
Produktspezifikationen:
Flaches Ziel, rotierendes Ziel
Anwendungsfelder:
Halbleiterfertigung, Herstellung optischer Geräte, Hartbeschichtungen, Nuklearindustrie
Verpackung Informationen:
Vakuumversiegelte Verpackung, kartonverpackt für Lagerung und Transport
Versorgungsmaterial-Fähigkeit:
Stabile Versorgung
Hervorheben:

Zielmaterial für Zirkonium-Sputter

,

Zielmaterial für Sputter mit hoher Reinheit

,

Zr Zirkonium-Sputterziel

Produkt-Beschreibung

Zirkonium-Ziele sind Sputterziele, die aus hochreinem Zirkonium (Zr) -Metall verarbeitet werden. Sie weisen eine geringe Wasserstoffabsorption, einen hohen Schmelzpunkt (1855 °C), eine ausgezeichnete Korrosionsbeständigkeit,und eine gute WärmeleitfähigkeitSie werden häufig in Halbleitern, optischen Beschichtungen und funktionellen Beschichtungen verwendet.Es kann stabil hochwertige Filme in Vakuumsprutzerumgebungen bilden..

Ausgezeichnete Eigenschaften von Zirkoniumziele

 

Ich... Typischerweise 99,5% ∼ 99,9% Reinheit, um eine stabile elektrische und optische Leistung der Filme zu gewährleisten.

 

 

Ich... Schmelzpunkt ca. 1855°C, bei hoher Temperaturverarbeitung stabil.

 

 

Ich... Ausgezeichnete Korrosionsbeständigkeit:Starke Beständigkeit gegen Säuren, Alkalien, Salze und die meisten chemischen Medien, geeignet für raue Umgebungen.

 

 

Ich... Durchschnitt mit niedriger Neutronenabsorption:Wichtig in der Kernindustrie, insbesondere für Reaktorkomponenten und deren Beschichtungen.

 

 

Ich... Starke Sauerstoffverwandtschaft:Leicht kombiniert sich mit Sauerstoff während des Sputterns, um hochwertige Zirkoniumoxid (ZrO2) -Folien zu erzeugen, die in optischen Beschichtungen, Isolationsschichten und anderen Anwendungen verwendet werden.

 

 Anwendungen von Zirkoniumzielen

 

Ich... Herstellung von Halbleitern


Verwendet zur Herstellung von Barrierelagen, dielektrischen Schichten oder Elektrodenmaterialien, um die Leistung und Stabilität des Geräts zu verbessern.

 

 

Ich... Herstellung optischer Geräte


Für die Herstellung von Filmen mit hohem Brechungsindex wie optischen Filtern und Anti-Reflexionsbeschichtungen verwendet.

 

 

Ich... Harte Beschichtungen


Häufig mit Nitrid (ZrN) kombiniert, um verschleiß- und korrosionsbeständige Beschichtungen herzustellen, die für Werkzeugbeschichtungen und dekorative Beschichtungen verwendet werden.

 

 

Ich... Kernindustrie


Aufgrund der geringen Neutronenabsorption von Zirkonium haben Zirkoniummaterialien und deren Folien besondere Anwendungen in Kernreaktorkomponenten.