รายละเอียดสินค้า
|
ความบริสุทธิ์สูง Zr Zirconium Sputtering เป้าหมายวัสดุความต้านทานต่อการกัดกร่อน
| ชื่อแบรนด์: | APG |
| เวลาการส่งมอบ: | 4-5 สัปดาห์ |
| เงื่อนไขการชำระเงิน: | ที/ที |
วัสดุเป้าหมายสําหรับการกระจายซิกอนิโอ
,วัสดุเป้าสปัตเตอริงความบริสุทธิ์สูง
,Zr เป้าหมายการกระจายซิกอนิโอ
เป้าซาร์โคเนียมเป็นเป้าสปัตเตอริงที่ผลิตจากโลหะซาร์โคเนียม (Zr) ที่มีความบริสุทธิ์สูง มีคุณสมบัติเด่นคือการดูดซับไฮโดรเจนต่ำ จุดหลอมเหลวสูง (1855°C) ทนทานต่อการกัดกร่อนได้ดีเยี่ยม และนำความร้อนได้ดี นิยมใช้กันอย่างแพร่หลายในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ การเคลือบผิวด้วยแสง และการเคลือบผิวเชิงฟังก์ชัน เนื่องจากคุณสมบัติทางกายภาพและเคมีที่ยอดเยี่ยมของซาร์โคเนียมและความสามารถในการรวมตัวกับออกซิเจนได้ดี ทำให้สามารถสร้างฟิล์มคุณภาพสูงได้อย่างเสถียรในสภาพแวดล้อมการสปัตเตอริงแบบสุญญากาศ
คุณสมบัติที่ยอดเยี่ยมของเป้าซาร์โคเนียม
l โดยทั่วไปมีความบริสุทธิ์ 99.5% – 99.9% ทำให้มั่นใจได้ถึงประสิทธิภาพทางไฟฟ้าและทางแสงที่เสถียรของฟิล์ม
l จุดหลอมเหลวประมาณ 1855°C รักษาความเสถียรภายใต้สภาวะการแปรรูปที่อุณหภูมิสูง
l ความต้านทานการกัดกร่อนที่ยอดเยี่ยม:ทนทานต่อกรด ด่าง เกลือ และสารเคมีส่วนใหญ่ได้ดี เหมาะสำหรับสภาพแวดล้อมที่รุนแรง
l ภาคตัดขวางการดูดซับนิวตรอนต่ำ:มีความสำคัญในอุตสาหกรรมนิวเคลียร์ โดยเฉพาะอย่างยิ่งสำหรับส่วนประกอบของเครื่องปฏิกรณ์และสารเคลือบผิว
l ความสามารถในการรวมตัวกับออกซิเจนสูง:รวมตัวกับออกซิเจนได้ง่ายระหว่างการสปัตเตอริงเพื่อผลิตฟิล์มซาร์โคเนียมออกไซด์ (ZrO₂) คุณภาพสูง ซึ่งใช้ในการเคลือบผิวด้วยแสง ชั้นฉนวน และการใช้งานอื่นๆ
การใช้งานเป้าซาร์โคเนียม
l การผลิตเซมิคอนดักเตอร์
ใช้ในการผลิตชั้นกั้น ชั้นไดอิเล็กทริก หรือวัสดุอิเล็กโทรด เพื่อเพิ่มประสิทธิภาพและความเสถียรของอุปกรณ์
l การผลิตอุปกรณ์แสง
ใช้ในการผลิตฟิล์มที่มีดัชนีหักเหสูง เช่น ฟิลเตอร์แสง และสารเคลือบป้องกันแสงสะท้อน
l การเคลือบผิวแข็ง
มักใช้ร่วมกับไนไตรด์ (ZrN) เพื่อผลิตสารเคลือบผิวที่ทนทานต่อการสึกหรอและการกัดกร่อน ใช้สำหรับการเคลือบเครื่องมือและสารเคลือบผิวตกแต่ง
l อุตสาหกรรมนิวเคลียร์
เนื่องจากซาร์โคเนียมมีการดูดซับนิวตรอนต่ำ วัสดุซาร์โคเนียมและฟิล์มของมันจึงมีการใช้งานพิเศษในส่วนประกอบของเครื่องปฏิกรณ์นิวเคลียร์
