Bahan Target Sputtering Zr Zirkonium Kemurnian Tinggi Ketahanan Korosi

Target zirkonium adalah target sputtering yang diproses dari logam zirkonium (Zr) dengan kemurnian tinggi. Target ini memiliki penyerapan hidrogen yang rendah, titik leleh yang tinggi (1855℃), ketahanan korosi yang sangat baik, dan konduktivitas termal yang baik. Target ini banyak digunakan dalam semikonduktor, pelapis optik, dan pelapis fungsional. Karena sifat fisik dan kimia zirkonium yang sangat baik dan afinitasnya yang kuat terhadap oksigen, zirkonium dapat membentuk film berkualitas tinggi secara stabil di lingkungan sputtering vakum.

Sifat Unggul Target Zirkonium

l Biasanya kemurnian 99,5% – 99,9%, memastikan kinerja listrik dan optik film yang stabil.

l Titik leleh sekitar 1855℃, menjaga stabilitas dalam kondisi pemrosesan suhu tinggi.

l Ketahanan Korosi yang Sangat Baik:Ketahanan yang kuat terhadap asam, alkali, garam, dan sebagian besar media kimia, cocok untuk lingkungan yang keras.

l Penampang Lintang Penyerapan Neutron Rendah:Penting dalam industri nuklir, terutama untuk komponen reaktor dan pelapisnya.

l Afinitas Oksigen yang Kuat:Mudah bergabung dengan oksigen selama sputtering untuk menghasilkan film zirkonium oksida (ZrO₂) berkualitas tinggi, digunakan dalam pelapis optik, lapisan isolasi, dan aplikasi lainnya.

 Aplikasi Target Zirkonium

l Manufaktur Semikonduktor

Digunakan untuk menghasilkan lapisan penghalang, lapisan dielektrik, atau bahan elektroda, meningkatkan kinerja dan stabilitas perangkat.

l Manufaktur Perangkat Optik

Digunakan untuk menghasilkan film indeks bias tinggi, seperti filter optik dan pelapis anti-refleksi.

l Pelapis Keras

Sering dikombinasikan dengan nitrida (ZrN) untuk menghasilkan pelapis tahan aus dan tahan korosi, digunakan untuk pelapis perkakas dan pelapis dekoratif.

l Industri Nuklir

Karena penyerapan neutron zirkonium yang rendah, material zirkonium dan filmnya memiliki aplikasi khusus dalam komponen reaktor nuklir.