उच्च शुद्धता Zr जिरकोनियम स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री संक्षारण प्रतिरोध

ज़िरकोनियम लक्ष्य उच्च-शुद्धता वाले ज़िरकोनियम (Zr) धातु से संसाधित स्पटरिंग लक्ष्य होते हैं। इनमें कम हाइड्रोजन अवशोषण, उच्च गलनांक (1855°C), उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध और अच्छा तापीय चालकता होती है। इनका व्यापक रूप से अर्धचालक, ऑप्टिकल कोटिंग्स और कार्यात्मक कोटिंग्स में उपयोग किया जाता है। ज़िरकोनियम के उत्कृष्ट भौतिक और रासायनिक गुणों और ऑक्सीजन के प्रति मजबूत आकर्षण के कारण, यह वैक्यूम स्पटरिंग वातावरण में उच्च-गुणवत्ता वाली फिल्में स्थिर रूप से बना सकता है।

ज़िरकोनियम लक्ष्यों के उत्कृष्ट गुण

l आमतौर पर 99.5% – 99.9% शुद्धता, जो फिल्मों के स्थिर विद्युत और ऑप्टिकल प्रदर्शन को सुनिश्चित करती है।

l लगभग 1855°C का गलनांक, उच्च-तापमान प्रसंस्करण स्थितियों के तहत स्थिरता बनाए रखता है।

l उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध:एसिड, क्षार, लवण और अधिकांश रासायनिक माध्यमों के प्रति मजबूत प्रतिरोध, कठोर वातावरण के लिए उपयुक्त।

l कम न्यूट्रॉन अवशोषण क्रॉस-सेक्शन:परमाणु उद्योग में महत्वपूर्ण, विशेष रूप से रिएक्टर घटकों और उनकी कोटिंग्स के लिए।

l ऑक्सीजन के प्रति मजबूत आकर्षण:उच्च-गुणवत्ता वाली ज़िरकोनियम ऑक्साइड (ZrO₂) फिल्में बनाने के लिए स्पटरिंग के दौरान आसानी से ऑक्सीजन के साथ जुड़ता है, जिसका उपयोग ऑप्टिकल कोटिंग्स, इन्सुलेटिंग लेयर्स और अन्य अनुप्रयोगों में किया जाता है।

 ज़िरकोनियम लक्ष्यों के अनुप्रयोग

l अर्धचालक निर्माण

बैरीयर लेयर्स, डाइइलेक्ट्रिक लेयर्स या इलेक्ट्रोड सामग्री का उत्पादन करने के लिए उपयोग किया जाता है, जो डिवाइस के प्रदर्शन और स्थिरता को बढ़ाता है।

l ऑप्टिकल डिवाइस निर्माण

उच्च-अपवर्तक-सूचकांक वाली फिल्में बनाने के लिए उपयोग किया जाता है, जैसे ऑप्टिकल फिल्टर और एंटी-रिफ्लेक्शन कोटिंग्स।

l कठोर कोटिंग्स

अक्सर नाइट्राइड्स (ZrN) के साथ मिलकर घर्षण-प्रतिरोधी और संक्षारण-प्रतिरोधी कोटिंग्स का उत्पादन करने के लिए उपयोग किया जाता है, जिनका उपयोग टूल कोटिंग्स और सजावटी कोटिंग्स के लिए किया जाता है।

l परमाणु उद्योग

ज़िरकोनियम के कम न्यूट्रॉन अवशोषण के कारण, ज़िरकोनियम सामग्री और उनकी फिल्मों के परमाणु रिएक्टर घटकों में विशेष अनुप्रयोग होते हैं।