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Einzelheiten zu den Produkten

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Keramikziele
Created with Pixso. Hochwiderstandsfähiger GXO-Target-Formgebungsprozess Sintern Kundenspezifisch Geformt
Ausführliche Information
Herkunftsort:
China
Zertifizierung:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
Reinheit:
99,99 %
Relative Dichte:
99 %
Name:
Hochresistentes Ziel (GXO)
Bildungsprozess:
Sintern
Produktspezifikationen:
Planare Ziele, rotierende Ziele, individuell geformte Ziele
Anwendungsfelder:
Photovoltaikindustrie, Automobilglas, Halbleiterherstellung, optische Funktionsfilme
Verpackung Informationen:
Vakuumversiegelte Verpackung, kartonverpackt für Lagerung und Transport
Versorgungsmaterial-Fähigkeit:
Stabile Versorgung
Hervorheben:

Hochwiderstandsfähiges GXO-Target

,

Sintern von GXO-Targets

,

GXO-Target Kundenspezifisch

Produkt-Beschreibung

Hochohmige Targets sind eine Kategorie von funktionellen Targetmaterialien für Sputterbeschichtungen, die sich durch Metall- oder Legierungsmaterialien mit hohem spezifischem Widerstand auszeichnen. Im physikalischen Gasphasenabscheidungsprozess (PVD) können GXO-Targets hochohmige Dünnschichten bilden, die für Optik, Elektronik, Halbleiter, Funktionsbeschichtungen und andere Bereiche geeignet sind. Durch die Steuerung der Zusammensetzung und Struktur der Targetmaterialien können Dünnschichten mit hohem Widerstand, guter Stabilität und starker Haftung erhalten werden, die die Anforderungen an die Optimierung der Geräteleistung und spezielle Funktionsanforderungen erfüllen.

Hervorragende Eigenschaften von hochohmigen Targets

 

l Abstimmbarer Widerstand


Der Widerstand der Dünnschicht kann innerhalb des Bereichs von 10⁶–10⁹ Ω mit stabiler Zuverlässigkeit beliebig eingestellt werden.

 

 

l Kontrollierbare Leistung


Eine präzise Steuerung des Widerstands, der Lichtdurchlässigkeit oder der Dicke kann durch Anpassung der Targetzusammensetzung oder der Prozessparameter erreicht werden, was den Anforderungen verschiedener Anwendungsszenarien gerecht wird.

 

 

l Gute thermische Stabilität


Die Dünnschicht behält ihre stabile Leistung in Hochtemperatur- oder Langzeitbetriebsumgebungen bei und ist nicht anfällig für Leitfähigkeitsdegradation oder Rissbildung der Schicht.

 

 

l Hervorragende Schichtkompaktheit und Haftung


Die durch hochohmige Targets abgeschiedene Dünnschicht weist eine dichte und gleichmäßige Struktur auf und haftet fest am Substrat, was die Lebensdauer und Zuverlässigkeit von Geräten verbessert.

 

Breite Anwendungen von hochohmigen Targets

 

l Photovoltaikindustrie


Hochohmige Dünnschichten werden auf LCDs, OLEDs, Touchscreens oder Dünnschichtsolarzellen abgeschieden, um eine gleichmäßige Widerstandsschicht zu bilden und gleichzeitig eine hohe Lichtdurchlässigkeit zu gewährleisten, was eine gleichmäßige Displayhelligkeit und eine empfindliche Touch-Reaktion sicherstellt. In Photovoltaikmodulen reduzieren sie den Leckstrom und verbessern die photoelektrische Umwandlungseffizienz.

 

l Automobilglas

 

Als transparente Heizschichten für Windschutzscheiben, Rückspiegel und architektonisches Glas können hochohmige Schichten schnell und gleichmäßig erwärmt werden, um ein Beschlagen oder Vereisen des Glases zu verhindern und Sicherheit und Komfort zu verbessern. Gleichzeitig weisen die Schichten eine hohe Lichtdurchlässigkeit auf, die die Sichtlinie nicht beeinträchtigt.

 

 

 l Halbleiterfertigung


Eingesetzt als Widerstandsschichten, Pufferschichten oder Isolationsschichten in Sensoren, Mikro-Elektro-Mechanischen Systemen (MEMS) oder integrierten Schaltungen, steuern sie präzise die Stromdichte, schützen Geräte vor Schäden durch Überstrom oder Kurzschlüsse und bieten hohe Zuverlässigkeit und Langzeitstabilität.

 

 

l Optische Funktionsschichten


Als funktionale Schichten für optische Filter und Sensoren gewährleisten die gebildeten hochohmigen Dünnschichten eine stabile optische Übertragungs- oder Reflexionsleistung, widerstehen hohen Temperaturen und Umweltveränderungen und verlängern die Lebensdauer optischer Geräte.