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Einzelheiten zu den Produkten

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Ziel für Metallsputtern
Created with Pixso. Aluminium Neodym AINd Ziel für die Optoelektronikindustrie
Ausführliche Information
Herkunftsort:
China
Zertifizierung:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
Reinheit:
99,99 %
Proportionierung:
Anpassbare Verhältnisse
Name:
Aluminium-Neodym-Target (AINd)
Bildungsprozess:
Schmelzen
Produktspezifikationen:
Planare Ziele, rotierende Ziele, unregelmäßig geformte Ziele
Anwendungsfelder:
Halbleiterfertigung. Anzeigetafeln, Touchscreen-Technologie. Photovoltaikindustrie
Verpackung Informationen:
Vakuumversiegelte Verpackung, kartonverpackt für Lagerung und Transport
Versorgungsmaterial-Fähigkeit:
Stabile Versorgung
Hervorheben:

Elektronik und Ziel

,

Aluminiumneodym AINd Ziel

,

Aluminium-Neodym-Ziel

Produkt-Beschreibung

Aluminium-Nd-Targets sind Legierungsziele, die aus Aluminium (Al) und Neodym (Nd) in spezifischen Verhältnissen bestehen und üblicherweise in Sputterbeschichtungsverfahren eingesetzt werden. Durch die Zugabe des Seltenerdmetalls Neodym zur Aluminiummatrix werden die Struktur und die Leistung des Aluminiumfilms erheblich verbessert, was zu einer dichteren, stabileren, korrosionsbeständigeren und hochtemperaturbeständigeren Filmschicht führt. Diese Targets weisen typischerweise eine hohe Reinheit, hohe Dichte und ausgezeichnete Leitfähigkeit auf, was sie zu einem wichtigen funktionellen Dünnschichtmaterial in den Bereichen Elektronik, Optoelektronik und erneuerbare Energien macht.

Kernvorteile von Aluminium-Nd-Targets

 

l Verbesserte Stabilität von Dünnschichten

 

Die Zugabe von Neodym verfeinert die Aluminiumfilmkörner, reduziert Spannungen und Pinholes, verbessert die Filmdichte und Haftung und macht den Film weniger anfällig für Ausfälle bei längerer Nutzung.

 

 

l Verbesserte Korrosions- und Hitzebeständigkeit

 

Im Vergleich zu reinen Aluminiumtargets zeigen Filme, die mit Aluminium-Neodym-Targets hergestellt wurden, eine stabilere Leistung in Umgebungen mit hoher Temperatur und hoher Luftfeuchtigkeit, mit verbesserter Oxidationsbeständigkeit.

 

 

l Ausgezeichnete Leitfähigkeit und optische Eigenschaften

 

Während die gute Leitfähigkeit erhalten bleibt, kann auch die Reflexions- und Transmissionseigenschaften der Filmschicht verbessert werden, um den Anforderungen von Displays und optischen Geräten gerecht zu werden.

 

 

Hauptanwendungen von Aluminium-Nd-Targets

 

l Halbleiterfertigung

 

Aluminium-Nd-Targets werden in Halbleiterchips und mikroelektronischen Geräten für Metallverbindungen, Elektroden, Sperrschichten oder Schutzschichten verwendet. Die Zugabe von Neodym verbessert die Kristallisation und den Spannungszustand des Aluminiumfilms, macht ihn dichter und stabiler, verbessert die Leitfähigkeit und Lebensdauer der Geräte erheblich und erfüllt die Anforderungen von Hochleistungs-Integrierter Schaltungen.

 

 

l Display-Panels

 

Bei der Herstellung von LCD-, OLED-, Micro-LED- und anderen Display-Panels werden Aluminium-Nd-Targets zur Herstellung von Elektroden, Backplanes und reflektierenden Schichten verwendet. Ihre ausgezeichnete Leitfähigkeit und optischen Reflexionseigenschaften tragen dazu bei, die Gleichmäßigkeit der Display-Helligkeit zu verbessern, den Stromverbrauch zu senken und die Haltbarkeit und Zuverlässigkeit von Display-Panels zu erhöhen.

 

 

l Touchscreen-Technologie

 

Aluminium-Nd-Targets können in Funktionsbeschichtungen für optische Linsen, Filter, Laserkomponenten usw. eingesetzt werden, um Reflexions-, Transmissions- und Absorptionseigenschaften zu steuern. Die Filmschichten sind korrosionsbeständig, haben eine starke Haftung und können in Umgebungen mit hoher Luftfeuchtigkeit und hoher Temperatur eine stabile Leistung aufrechterhalten, was den strengen Anforderungen von High-End-Optikgeräten entspricht.

 

 

l Photovoltaik-Industrie

 

Aluminium-Nd-Targets werden häufig als Elektroden- oder reflektierende Schichtmaterialien bei der Herstellung von kristallinen Silizium- oder Dünnschichtsolarzellen verwendet. Sie verbessern die Leitfähigkeit, Reflexionsfähigkeit und Stabilität der Filmschicht und erhöhen dadurch die photovoltaische Umwandlungseffizienz und die Langzeitzuverlässigkeit von Solarzellen.