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Dettagli dei prodotti

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materiale bersaglio sputtering
Created with Pixso. Bersaglio di sputtering al silicio (bersaglio di sputtering Si)  
Informazione dettagliata
Luogo di origine:
Cina
Certificazione:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
Purezza:
La purezza del silicio cristallino è del 99,999% e la purezza dell'Hsi è del 99,99%
Densità:
2,33 g/cm³
Nome:
Bersaglio per sputtering al silicio (bersaglio per sputtering al silicio)
Processo di formazione:
Spruzzatura, sinterizzazione, crescita dei cristalli
Specifiche del prodotto:
Bersaglio piatto, Bersaglio rotante
Campi di applicazione:
Produzione di dispositivi ottici, produzione di semiconduttori, produzione di sensori
Imballaggi particolari:
Imballaggio sottovuoto, imballato in cartoni per lo stoccaggio e il trasporto
Capacità di alimentazione:
Rifornimento stabile
Evidenziare:

Obiettivo di sputtering del silicio

,

Bersaglio sputtering Si

,

Bersaglio in silicio Si

Descrizione di prodotto

Materiale bersaglio per lo sputtering di silicio ad alta purezza: Materiale di base per la deposizione di pellicole sottili

Il materiale bersaglio è utilizzato nei processi di deposizione fisica di vapore (PVD), principalmente per depositare strati medi come ossido di silicio, nitruro di silicio e idruro di silicio.Può essere suddiviso in silicio cristallino e tipi HSiGli obiettivi di sputtering del silicio sono in genere grigi scuri con un aspetto semimetallico e una densità di circa 2,33 g/cm3. Il punto di fusione del silicio è 1414°C e il suo punto di ebollizione è 3265°C.Il silicio ha un elevato coefficiente di conduttività termica (149 W·m−1·K−1) ed un'eccellente conduttività termicaInoltre, il materiale bersaglio del silicio ha una buona durezza, proprietà ottiche, resistenza all'usura ed eccellente resistenza alla corrosione.

Eccellenti proprietà del materiale bersaglio per lo sputtering in silicio:

 

Io... L'alta purezza garantisce prestazioni di film sottile stabili


Il silicio cristallino ha una purezza del 99,999%, mentre la purezza HSi è del 99,99%

 

 

Io... Eccellente uniformità e densità del film sottile


Gli obiettivi di sputtering in silicio hanno un'elevata efficienza di sputtering e sono compatibili con varie apparecchiature di rivestimento a vuoto nel processo PVD.Gli atomi di silicio hanno una buona adesione ai substrati comuni (come il vetro), metallo, wafer di silicio), che formano film stabili e non sbuccianti che soddisfano elevati requisiti di affidabilità.

 

 

Io... Buono tasso di sputtering e adesione


La buona conduttività termica del silicio aiuta a dissipare rapidamente il calore dalla superficie bersaglio, evitando il surriscaldamento locale.aiuta nella deposizione efficiente della pellicola.

 

 Ampie applicazioni del materiale bersaglio per lo sputtering in silicio

 

Io... Fabbricazione di apparecchi ottici


Alta purezza: gli obiettivi di sputtering in silicio garantiscono la chiarezza, la stabilità e l'accuratezza dei dispositivi ottici, migliorando le loro prestazioni e affidabilità.Nel settore delle comunicazioni in fibra ottica ecircuiti ottici integrati, le pellicole di biossido di silicio sono utilizzate come materiali di guida d'onda per trasmettere e elaborare segnali ottici.

 

 

Io... Fabbricazione di semiconduttori

 

Utilizzato per la preparazione di substrati e materiali di imballaggio per i LED, migliorando l'efficienza luminosa e la stabilità dei LED.

 

 

Io... Fabbricazione di sensori

 

Utilizzato nella produzione di elementi sensori e circuiti di elaborazione del segnale, migliorando la sensibilità e la precisione dei sensori

 

 

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