চাইনিজ কপার স্পুটারিং টার্গেট (Cu sputtering টার্গেট)

উচ্চ বিশুদ্ধ কপার স্পাটারিং টার্গেট, কাস্টম/প্ল্যানার/রোটারি কপার টার্গেট, স্পাটারিং কোটিংয়ের জন্য কপার টার্গেট সরবরাহকারী 

উপাদানের ভৌত বৈশিষ্ট্যগুলি সরাসরি ভ্যাকুয়াম স্পাটারিং কোটিংয়ে ফিল্মের গুণমান এবং উৎপাদন দক্ষতা নির্ধারণ করে। কপার টার্গেট, তাদের অন্তর্নিহিত চমৎকার পরিবাহিতা এবং অসামান্য তাপ পরিবাহিতা সহ, সেমিকন্ডাক্টর উৎপাদন, ডিসপ্লে প্যানেল, ফটোভোলটাইক শিল্প এবং পাওয়ার ব্যাটারির মতো উচ্চ-প্রান্তের উত্পাদন ক্ষেত্রগুলিতে একটি "মূল উপাদান" হয়ে উঠেছে। তাদের অনন্য কর্মক্ষমতা সুবিধাগুলি কেবল স্পাটারিং প্রক্রিয়ার স্থিতিশীলতা এবং দক্ষতা নিশ্চিত করে না বরং লেপযুক্ত পণ্যগুলিতে চমৎকার কার্যকারিতা এবং নির্ভরযোগ্যতাও প্রদান করে।

 কপার স্পাটারিং টার্গেটের মূল সুবিধা: বিশুদ্ধতা এবং শস্যের আকার

l অতি-উচ্চ বিশুদ্ধতা, অত্যন্ত কম অপদ্রব্য

কাঁচামাল হিসাবে 99.9% (3N) থেকে 99.9999% (6N) পর্যন্ত উচ্চ-বিশুদ্ধতা ইলেক্ট্রোলাইসিস কপার ব্যবহার করে, অক্সিজেন, সালফার, লোহা ইত্যাদির মতো অপদ্রব্যগুলি কঠোরভাবে নিয়ন্ত্রণ করতে মাল্টি-স্টেপ পরিশোধন প্রক্রিয়া (ইলেক্ট্রোলাইটিক রিফাইনিং, জোন রিফাইনিং) ব্যবহার করা হয়, যা অভিন্ন এবং ত্রুটিমুক্ত স্পাটার্ড ফিল্ম নিশ্চিত করে যা নির্ভুল ইলেকট্রনিক উপাদানগুলির কর্মক্ষমতা প্রয়োজনীয়তা পূরণ করে।

l শস্যের আকারের অভিন্নতা

কপার স্পাটারিং টার্গেটগুলি মাইক্রোস্কোপিক পরিদর্শনে ঘনভাবে সাজানো দানা প্রদর্শন করে যার একটি সামঞ্জস্যপূর্ণ ওরিয়েন্টেশন (টেক্সচার) রয়েছে। এই অপ্টিমাইজড মাইক্রোস্ট্রাকচার স্পাটারিং প্রক্রিয়ার সময় উচ্চ স্থিতিশীলতা নিশ্চিত করে এবং অভিন্ন ফিল্মের গুণমান নিশ্চিত করে।

l চমৎকার ভৌত বৈশিষ্ট্য, স্থিতিশীল স্পাটারিং

কপার একটি লালচে-কমলা ধাতু যার গলনাঙ্ক 1083°C, ঘনত্ব 8.96g/cm³, এবং স্ফুটনাঙ্ক 2567 °C। চমৎকার তাপ এবং বৈদ্যুতিক পরিবাহিতা দ্বারা চিহ্নিত, কপার টার্গেটগুলি উচ্চ-ফ্রিকোয়েন্সি স্পাটারিংয়ের সময় দ্রুত তাপ অপচয়কে সহজতর করে। এটি স্থানীয় তাপীয় চাপের কারণে বিকৃতি বা ফাটল প্রতিরোধ করে, একটি অবিচ্ছিন্ন, স্থিতিশীল এবং উচ্চ-ফলনশীল জমা প্রক্রিয়া নিশ্চিত করে।

l নির্ভুল গঠন, শক্তিশালী সামঞ্জস্যতা

ফ্ল্যাট টার্গেট, রোটারি টার্গেট এবং কাস্টমাইজড আকারের মতো বিভিন্ন স্পেসিফিকেশনের কাস্টমাইজেশন সমর্থন করে, যেখানে আকারের নির্ভুলতা ±0.1mm এর মধ্যে নিয়ন্ত্রিত হয়। টার্গেট পৃষ্ঠের রুক্ষতা হল R_a ≤ 0.8μm, ম্যাগনেট্রন স্পাটারিং এবং আয়ন বিম স্পাটারিংয়ের মতো মূলধারার স্পাটারিং সরঞ্জামগুলির সাথে পুরোপুরি সামঞ্জস্যপূর্ণ, স্পাটারিংয়ের সময় আর্কিং ঘটনা হ্রাস করে।

কপার স্পাটারিং টার্গেটের প্রধান প্রয়োগ ক্ষেত্র

l সেমিকন্ডাক্টর উৎপাদন

কপার স্পাটারিং টার্গেটগুলি সেমিকন্ডাক্টর চিপ উৎপাদনে মেটাল ইন্টারকানেক্ট স্তরগুলিতে (যেমন Cu ইন্টারকানেক্ট) ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়। চমৎকার বৈদ্যুতিক এবং তাপীয় পরিবাহিতা সহ তারা কার্যকরভাবে প্রতিরোধ এবং বিদ্যুৎ খরচ হ্রাস করে, যা উন্নত প্রক্রিয়াগুলিতে তাদের একটি অপরিহার্য মূল উপাদান করে তোলে।

l ডিসপ্লে প্যানেল

কপার স্পাটারিং টার্গেটগুলি প্রায়শই LCD, OLED এবং অন্যান্য ফ্ল্যাট-প্যানেল ডিসপ্লেগুলির উৎপাদনে পরিবাহী ওয়্যারিং স্তর তৈরি করতে ব্যবহৃত হয়। কপার একটি কম প্রতিরোধ ক্ষমতা রাখে যা ঐতিহ্যবাহী উপকরণের তুলনায় ডিসপ্লে প্রতিক্রিয়া গতি এবং শক্তি দক্ষতা উন্নত করে।

l ফটোভোলটাইক শিল্প

কপার টার্গেটগুলি CIGS (কপার ইন্ডিয়াম গ্যালিয়াম সেলেনাইড) পাতলা-ফিল্ম সৌর কোষগুলির উৎপাদনে একটি গুরুত্বপূর্ণ ভূমিকা পালন করে। ব্যাক ইলেকট্রোড এবং মধ্যবর্তী পরিবাহী স্তরগুলির গঠনে ব্যবহৃত, তারা উন্নত ফটোইলেকট্রিক রূপান্তর দক্ষতা এবং দীর্ঘমেয়াদী ডিভাইস স্থিতিশীলতায় উল্লেখযোগ্যভাবে অবদান রাখে।

l পাওয়ার ব্যাটারি
কপার স্পাটারিং টার্গেটগুলি লিথিয়াম ব্যাটারি ইলেকট্রোডগুলির স্পাটারিং কোটিং ট্রিটমেন্টেও ব্যবহৃত হয়, ইলেকট্রোড আনুগত্য এবং পরিবাহিতা উন্নত করে, ব্যাটারির চক্র জীবন এবং শক্তি ঘনত্ব উন্নত করতে সহায়তা করে।

কপার স্পাটারিং টার্গেটের জন্য একটি উদ্ধৃতি অনুরোধ করুন

অনুগ্রহ করে প্রয়োজনীয় বিশুদ্ধতা গ্রেড, টার্গেট মাত্রা, পরিমাণ এবং ব্যাক প্লেট বা বন্ধন প্রয়োজনীয়তা নির্দিষ্ট করুন যখন APG এর সাথে যোগাযোগ করুন। আমাদের স্পাটারিং টার্গেটগুলি সম্পর্কিত উপকরণগুলির জন্য অন্বেষণ করুন।