Mục tiêu phún xạ đồng Trung Quốc(Mục tiêu phún xạ Cu)

Mục tiêu phún xạ đồng độ tinh khiết cao, Mục tiêu đồng tùy chỉnh/phẳng/quay, Nhà cung cấp mục tiêu đồng cho Phún xạ  

Các đặc tính vật lý của vật liệu trực tiếp quyết định chất lượng màng và hiệu quả sản xuất trong quá trình phún xạ chân không. Mục tiêu đồng, với độ dẫn điện tuyệt vời vốn có và độ dẫn nhiệt vượt trội, đã trở thành "vật liệu then chốt" trong các lĩnh vực sản xuất cao cấp như sản xuất bán dẫn, tấm nền hiển thị, ngành công nghiệp quang điện và pin năng lượng. Ưu điểm hiệu suất độc đáo của chúng không chỉ đảm bảo sự ổn định và hiệu quả của quá trình phún xạ mà còn mang lại cho các sản phẩm được phủ chức năng và độ tin cậy tuyệt vời.

 Ưu điểm cốt lõi của mục tiêu phún xạ đồng: Độ tinh khiết và kích thước hạt

l Độ tinh khiết siêu cao, tạp chất cực thấp

Sử dụng đồng điện phân độ tinh khiết cao từ 99,9% (3N) đến 99,9999% (6N) làm nguyên liệu thô, quy trình tinh chế nhiều bước (tinh luyện điện phân, tinh luyện vùng) được sử dụng để kiểm soát nghiêm ngặt các tạp chất như oxy, lưu huỳnh, sắt, v.v., đảm bảo các màng phún xạ đồng nhất và không có khuyết tật, đáp ứng yêu cầu hiệu suất của các linh kiện điện tử chính xác.

l Độ đồng nhất kích thước hạt

Mục tiêu phún xạ đồng thể hiện các hạt được sắp xếp chặt chẽ với hướng (kết cấu) nhất quán dưới kính hiển vi. Vi cấu trúc được tối ưu hóa này đảm bảo độ ổn định cao trong quá trình phún xạ và đảm bảo chất lượng màng đồng nhất.

l Đặc tính vật lý tuyệt vời, Phún xạ ổn định

Đồng là kim loại màu đỏ cam với điểm nóng chảy 1083°C, mật độ 8,96g/cm³, và điểm sôi 2567 °C. Đặc trưng bởi độ dẫn nhiệt và điện vượt trội, mục tiêu đồng tạo điều kiện tản nhiệt nhanh chóng trong quá trình phún xạ tần số cao. Điều này ngăn chặn hiệu quả sự biến dạng hoặc nứt do ứng suất nhiệt cục bộ, đảm bảo quá trình lắng đọng liên tục, ổn định và năng suất cao.

l Định hình chính xác, Tương thích mạnh mẽ

Hỗ trợ tùy chỉnh nhiều thông số kỹ thuật khác nhau như mục tiêu phẳng, mục tiêu quay và hình dạng tùy chỉnh, với độ chính xác kích thước được kiểm soát trong vòng ±0,1mm. Độ nhám bề mặt mục tiêu là R_a ≤ 0,8μm, tương thích hoàn hảo với các thiết bị phún xạ chính thống như phún xạ từ tính và phún xạ chùm ion, giảm hiện tượng hồ quang trong quá trình phún xạ.

Các lĩnh vực ứng dụng chính của mục tiêu phún xạ đồng

l Sản xuất bán dẫn

Mục tiêu phún xạ đồng được sử dụng rộng rãi trong các lớp kết nối kim loại (như kết nối Cu) trong sản xuất chip bán dẫn. Với độ dẫn điện và nhiệt vượt trội, chúng giúp giảm hiệu quả điện trở và tiêu thụ điện năng, làm cho chúng trở thành vật liệu then chốt không thể thiếu trong các quy trình tiên tiến.

l Tấm nền hiển thị

Mục tiêu phún xạ đồng thường được sử dụng để tạo các lớp dây dẫn trong sản xuất màn hình LCD, OLED và các màn hình phẳng khác. Đồng có điện trở thấp hơn giúp cải thiện tốc độ phản hồi hiển thị và hiệu quả năng lượng so với các vật liệu truyền thống.

l Ngành công nghiệp quang điện

Mục tiêu đồng đóng vai trò quan trọng trong việc chế tạo các tế bào năng lượng mặt trời màng mỏng CIGS (Đồng Indium Gallium Selenide). Được sử dụng trong việc tạo các điện cực sau và các lớp dẫn điện trung gian, chúng đóng góp đáng kể vào hiệu suất chuyển đổi quang điện vượt trội và độ ổn định thiết bị lâu dài.

l Pin năng lượng
Mục tiêu phún xạ đồng cũng được sử dụng trong xử lý phủ phún xạ các điện cực pin lithium, tăng cường độ bám dính và độ dẫn điện của điện cực, giúp cải thiện tuổi thọ chu kỳ và mật độ năng lượng của pin.

Yêu cầu báo giá mục tiêu phún xạ đồng

Vui lòng chỉ định cấp độ tinh khiết yêu cầu, kích thước mục tiêu, số lượng và yêu cầu về tấm nền hoặc mối hàn khi liên hệ với APG. Khám phá mục tiêu phún xạ của chúng tôi cho các vật liệu liên quan.