logo
قیمت خوب  آنلاین

جزئیات محصولات

Created with Pixso. خونه Created with Pixso. محصولات Created with Pixso.
کندوپاش مواد هدف
Created with Pixso. اهداف کندوپاش مس چینی (اهداف کندوپاش مس)
اطلاعات دقیق
محل منبع:
چین
گواهی:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
خلوص:
99.9٪ (3N) تا 99.9999٪ (6N)
محتوای کم اکسیژن:
میزان اکسیژن کمتر از 10ppm است.
نام:
اهداف کندوپاش مس (اهداف کندوپاش مس)
تشکیل فرآیند:
ذوب خلاء، پیوند
مشخصات محصول:
اهداف مسطح، اهداف چرخشی، اهداف سفارشی شکل
فیلدهای کاربردی:
ساخت نیمه هادی، پنل های نمایشگر، صنعت فتوولتائیک، باتری های برق
جزئیات بسته بندی:
بسته بندی خلاء مهر و موم شده، بسته بندی شده برای نگهداری و حمل و نقل
قابلیت ارائه:
عرضه پایدار
برجسته کردن:

اهداف کندوپاش مس

,

cu اهداف کندوپاش

,

هدف اسپاترینگ مس

توضیحات محصول

هدف های اسپوترنگ مس با خلوص بالا، هدف های مس سفارشی/طرحی/گردشی، هدف های مس تامین کننده پوشش اسپوترنگ

خواص فیزیکی مواد به طور مستقیم کیفیت فیلم و بهره وری تولید را در پوشش های اسپوتر خلاء تعیین می کنند.با هدایت عالی و هدایت حرارتی برجسته، تبدیل به یک "مواد کلیدی" در زمینه های تولید پیشرفته مانند تولید نیمه هادی، پانل های نمایش، صنعت فتوولتائیک و باتری های قدرت شده اند.مزایای عملکرد منحصر به فرد آنها نه تنها ثبات و کارایی فرآیند پاشاندن را تضمین می کند بلکه محصولات پوشش داده شده را با عملکرد و قابلیت اطمینان عالی نیز فراهم می کند.

 مزیت های اصلی اهداف اسپتر کردن مس:خالصی و اندازه دانه

 

من خالصيت فوق العاده بالا، ناپاكي هاي بسيار کم


استفاده از مس الکترولیزی با طهارت بالا از 99.9٪ (3N) تا 99.9999٪ (6N) به عنوان مواد اولیه، فرآیندهای تصفیه چند مرحله ای (صفایی الکترولیتی،استفاده می شود برای کنترل دقیق ناخالصی هایی مانند اکسیژن، گوگرد، آهن و غیره، اطمینان از فیلم های اسپتر شده یکنواخت و بدون نقص که نیازهای عملکرد قطعات الکترونیکی دقیق را برآورده می کنند.

 

 

من یکنواخت بودن اندازه دانه


هدف های اسپوترنگ مس دارای دانه های مرتب شده محکم با جهت گیری ثابت (بخش بندی) تحت بررسی میکروسکوپی است.این میکروساخت بهینه سازی شده تضمین ثبات بالا در طول فرآیند اسپتر و تضمین کیفیت فیلم یکنواخت.

 

 

من خواص فیزیکی عالی، پاشیدن پایدار

مس یک فلز قرمز نارنجی با نقطه ذوب 1083 ° C، تراکم 8.96g / cm است3، و نقطه جوش 2567 ° C. با هدایت گرما و برق برتر، اهداف مس باعث دفع سریع گرما در طول اسپتر شدن با فرکانس بالا می شود.این به طور موثر از تغییر شکل یا ترک ناشی از استرس حرارتی محلی جلوگیری می کند، تضمین یک فرآیند سپرده گذاری مستمر، پایدار و با بازده بالا.

 

 

من شکل گیری دقیق، سازگاری قوی


پشتیبانی از سفارشی سازی مشخصات مختلف مانند اهداف مسطح، اهداف چرخش و اشکال سفارشی، با دقت اندازه کنترل شده در ± 0.1mm. خشکی سطح هدف Ra≤ 0.8μm، کاملا سازگار با تجهیزات اسپوتینگ اصلی مانند اسپوتینگ ماگنترون و اسپوتینگ پرتو یون، کاهش پدیده های قوس در طول اسپوتینگ.

 

زمینه های اصلی کاربرد هدف های اسپوترنگ مس

 

من تولید نیمه هادی


اهداف اسپوترنگ مس به طور گسترده ای در لایه های اتصال متالی (مانند اتصال Cu) در تولید تراشه نیمه هادی استفاده می شود.با رسانایی الکتریکی و حرارتی برتر آنها به طور موثر مقاومت و مصرف برق را کاهش می دهند، باعث می شود آنها یک ماده کلیدی ضروری در فرآیندهای پیشرفته باشند.

 

 

من صفحه نمایش


هدف های اسپوترنگ مس اغلب برای تشکیل لایه های سیم کشی رسانا در تولید صفحه نمایش LCD، OLED و سایر صفحه نمایش های تخت استفاده می شود.مس دارای مقاومت کمتری است که سرعت پاسخ صفحه نمایش و بهره وری انرژی را در مقایسه با مواد سنتی بهبود می بخشد.

 

 

من صنعت خورشیدی


اهداف مس نقش مهمی در ساخت سلول های خورشیدی فلزی نازک CIGS (Copper Indium Gallium Selenide) دارند.آنها به طور قابل توجهی به بهره وری تبدیل فوتو الکتریکی و ثبات طولانی مدت دستگاه کمک می کنند..

 

 

من باتری های قدرت
اهداف اسپوتری مس همچنین در درمان پوشش اسپوتری الکترود های باتری لیتیوم استفاده می شود، که چسبندگی و رسانایی الکترود را افزایش می دهد.کمک به بهبود عمر چرخه باتری و تراکم انرژی.

 

 

درخواست یک نرخ هدف پرتاب مس

لطفاً درجه خالصیت مورد نیاز، ابعاد مورد نظر، مقدار و الزامات صفحه پشتیبان یا چسبندگی را مشخص کنیدتماس با APG. در حال کشف ماهدف های اسپوتینگبرای مواد مرتبط.