logo
ভালো দাম  অনলাইন

পণ্যের বিবরণ

Created with Pixso. বাড়ি Created with Pixso. পণ্য Created with Pixso.
sputtering লক্ষ্য উপাদান
Created with Pixso. সিলিকন স্পটটিং টার্গেট (Si Sputtering Target)
বিস্তারিত তথ্য
উৎপত্তি স্থল:
চীন
সাক্ষ্যদান:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
বিশুদ্ধতা:
স্ফটিক সিলিকনের বিশুদ্ধতা 99.999%, এবং Hsi এর বিশুদ্ধতা 99.99%
ঘনত্ব:
2.33 গ্রাম/সেমি³
নাম:
সিলিকন স্পাটারিং টার্গেট (সি স্পাটারিং টার্গেট)
গঠন প্রক্রিয়া:
স্প্রে করা, সিন্টারিং, ক্রিস্টাল গ্রোথ
পণ্য বিশেষ উল্লেখ:
সমতল লক্ষ্য, ঘূর্ণায়মান লক্ষ্য
আবেদন ক্ষেত্র:
অপটিক্যাল ডিভাইস ম্যানুফ্যাকচারিং, সেমিকন্ডাক্টর ম্যানুফ্যাকচারিং, সেন্সর ম্যানুফ্যাকচারিং
প্যাকেজিং বিবরণ:
ভ্যাকুয়াম-সিলড প্যাকেজিং, স্টোরেজ এবং পরিবহনের জন্য কেস-প্যাক
যোগানের ক্ষমতা:
স্থিতিশীল সরবরাহ
বিশেষভাবে তুলে ধরা:

সিলিকন স্পাটারিং টার্গেট

,

Si স্পাটারিং টার্গেট

,

সিলিকন Si টার্গেট

পণ্যের বর্ণনা

উচ্চ বিশুদ্ধতা সিলিকন স্পটারিং লক্ষ্য উপাদানঃ পাতলা ফিল্ম অবক্ষয়ের জন্য মূল উপাদান

সিলিকন স্পটারিং টার্গেট উপাদানটি শারীরিক বাষ্প জমা (পিভিডি) প্রক্রিয়াগুলিতে ব্যবহৃত হয়, মূলত সিলিকন অক্সাইড, সিলিকন নাইট্রাইড এবং সিলিকন হাইড্রাইডের মতো মাঝারি স্তর জমা দেওয়ার জন্য।এটি স্ফটিক সিলিকন এবং এইচএসআই ধরণের মধ্যে বিভক্ত করা যেতে পারে. সিলিকন স্পটারিং টার্গেটগুলি সাধারণত একটি অর্ধ-ধাতব চেহারা এবং প্রায় ২.৩৩ গ্রাম / সেমি 3 এর ঘনত্ব সহ গা dark় ধূসর হয়। সিলিকনের গলন বিন্দু 1414 ° C এবং এর ফুটন্ত বিন্দু 3265 ° C।সিলিকন একটি উচ্চ তাপ পরিবাহিতা সহগ (149 W·m−1·K−1) এবং চমৎকার তাপ পরিবাহিতা আছেএছাড়াও, সিলিকন লক্ষ্য উপাদান ভাল কঠোরতা, অপটিক্যাল বৈশিষ্ট্য, পরিধান প্রতিরোধের, এবং চমৎকার জারা প্রতিরোধের আছে।

সিলিকন স্পটারিং লক্ষ্য উপাদান চমৎকার বৈশিষ্ট্যঃ

 

আমি উচ্চ বিশুদ্ধতা স্থিতিশীল পাতলা ফিল্ম কর্মক্ষমতা নিশ্চিত করে


স্ফটিক সিলিকন এর বিশুদ্ধতা ৯৯.৯৯% এবং এইচএসআই বিশুদ্ধতা ৯৯.৯৯%

 

 

আমি চমৎকার পাতলা ফিল্ম অভিন্নতা এবং ঘনত্ব


সিলিকন স্পটারিং লক্ষ্যমাত্রা একটি উচ্চ স্পটারিং দক্ষতা আছে এবং PVD প্রক্রিয়ায় বিভিন্ন ভ্যাকুয়াম লেপ সরঞ্জাম সঙ্গে সামঞ্জস্যপূর্ণ। একই সময়ে,সিলিকন পরমাণু সাধারণ স্তর (যেমন গ্লাস) ভাল আঠালো আছে, ধাতু, সিলিকন ওয়েফার), যা উচ্চ নির্ভরযোগ্যতার প্রয়োজনীয়তা পূরণ করে এমন স্থিতিশীল, অ-পিলিং ফিল্ম গঠন করে।

 

 

আমি ভাল স্পটারিং রেট এবং আঠালো


সিলিকন এর ভাল তাপ পরিবাহিতা লক্ষ্য পৃষ্ঠ থেকে তাপ দ্রুত ছড়িয়ে দিতে সাহায্য করে, স্থানীয় overheating প্রতিরোধ। এছাড়াও এর পরিবাহিতা ম্যাগনেট্রন স্পটারিং জন্য অপরিহার্য,কার্যকরভাবে ফিল্ম জমা দেওয়ার ক্ষেত্রে সহায়তা করে.

 

 সিলিকন স্পটারিং লক্ষ্য উপাদান বিস্তৃত অ্যাপ্লিকেশন

 

আমি অপটিক্যাল ডিভাইস উৎপাদন


উচ্চ বিশুদ্ধতাঃ সিলিকন স্পটারিং টার্গেটগুলি অপটিক্যাল ডিভাইসগুলির স্বচ্ছতা, স্থিতিশীলতা এবং নির্ভুলতা নিশ্চিত করে, তাদের কর্মক্ষমতা এবং নির্ভরযোগ্যতা উন্নত করে। অ্যান্টি-প্রতিফলন এবং প্রতিরক্ষামূলক স্তরঃফাইবার অপটিক যোগাযোগ এবংইন্টিগ্রেটেড অপটিক্যাল সার্কিট, সিলিকন ডাই অক্সাইড ফিল্মগুলি অপটিক্যাল সংকেতগুলি প্রেরণ এবং প্রক্রিয়া করার জন্য ওয়েভগাইড উপাদান হিসাবে ব্যবহৃত হয়।

 

 

আমি সেমিকন্ডাক্টর উৎপাদন

 

এলইডিগুলির জন্য স্তর এবং প্যাকেজিং উপকরণ প্রস্তুত করতে ব্যবহৃত হয়, এলইডিগুলির আলোক দক্ষতা এবং স্থায়িত্বের উন্নতি প্রদান করে।

 

 

আমি সেন্সর উৎপাদন

 

সেন্সর উপাদান এবং সিগন্যাল প্রসেসিং সার্কিট উৎপাদনে ব্যবহৃত হয়, সেন্সরগুলির সংবেদনশীলতা এবং নির্ভুলতা বৃদ্ধি করে

 

 

সিলিকন স্পটারিং লক্ষ্যমাত্রা উদ্ধৃতি অনুরোধ

অনুগ্রহ করে উপাদান গ্রেড, প্রয়োজনীয় বিশুদ্ধতা, লক্ষ্যমাত্রা মাত্রা, পরিমাণ এবং লিপিংয়ের প্রয়োজনীয়তা উল্লেখ করুন যখনএপিজির সাথে যোগাযোগ করুনআমাদের অন্বেষণস্পুটারিং লক্ষ্যসংশ্লিষ্ট উপকরণের জন্য।