Chinesische Kupfer-Sputtertargets (Cu-Sputtertargets)

Hochreine Kupfersputterziele, kundenspezifische/planare/rotative Kupferziele, Kupferziele Lieferant für Sputterbeschichtung

Die physikalischen Eigenschaften der Materialien bestimmen unmittelbar die Filmqualität und die Produktionseffizienz der Vakuumsprutzerbeschichtung.mit ihrer inhärenten hervorragenden Leitfähigkeit und hervorragenden Wärmeleitfähigkeit, sind zu einem "Schlüsselmaterial" in hochwertigen Fertigungsbereichen wie der Halbleiterherstellung, der Anzeigetechnik, der Photovoltaikindustrie und der Batterienindustrie geworden.Ihre einzigartigen Leistungsvorteile sorgen nicht nur für die Stabilität und Effizienz des Sputterprozesses, sondern verleihen den beschichteten Produkten auch eine hervorragende Funktionalität und Zuverlässigkeit.

 Hauptvorteile von Kupfer-Sputterzielen: Reinheit und Korngröße

Ich... Ultra-hohe Reinheit, extrem niedrige Unreinheiten

Mit hochreinem Elektrolyse-Kupfer von 99,9% (3N) bis 99,9999% (6N) als Rohstoff, mehrstufige Reinigungsprozesse (elektrolytische Raffination,Zonenrefining) werden verwendet, um die Verunreinigungen wie Sauerstoff streng zu kontrollieren, Schwefel, Eisen usw., die einheitliche und fehlerfreie Sputterfolien gewährleisten, die den Leistungsanforderungen von Präzisionselektronikkomponenten entsprechen.

Ich... Einheitliche Korngröße

Kupfer-Sputterziele zeigen unter mikroskopischer Betrachtung dicht angeordnete Körner mit einer gleichbleibenden Ausrichtung (Textur).Diese optimierte Mikrostruktur gewährleistet eine hohe Stabilität während des Sputterprozesses und garantiert eine einheitliche Filmqualität.

Ich... Ausgezeichnete physikalische Eigenschaften, stabile Sputterung

Kupfer ist ein rötlich-orangefarbenes Metall mit einem Schmelzpunkt von 1083°C, einer Dichte von 8,96 g/cm³, und einem Siedepunkt von 2567 °C. Durch ihre überlegene Wärme- und elektrische Leitfähigkeit erleichtern Kupferziele eine schnelle Wärmeableitung beim Hochfrequenzsputtern.Dies verhindert wirksam Verformungen oder Risse, die durch lokalisierte thermische Belastung verursacht werden, um einen kontinuierlichen, stabilen und ertragsstarken Einlagenprozess zu gewährleisten.

Ich... Präzisionsformung, starke Kompatibilität

Unterstützt die Anpassung verschiedener Spezifikationen wie flache Ziele, rotierende Ziele und angepasste Formen, mit einer Größengenauigkeit, die innerhalb von ± 0,1 mm gesteuert wird._Ein≤ 0,8 μm, perfekt kompatibel mit herkömmlichen Sputterausrüstungen wie Magnetronen- und Ionenstrahlsputtern, wodurch Bogenerscheinungen während des Sputterns reduziert werden.

Hauptanwendungsbereiche von Kupfer-Sputterzielen

Ich... Herstellung von Halbleitern

Kupfer-Sputterziele werden in der Halbleiterchipherstellung weit verbreitet in den Metallverbindungsschichten (z. B. Cu-Verbindungen) verwendet.Durch ihre überlegene elektrische und thermische Leitfähigkeit reduzieren sie Wirkung und Stromverbrauch., was sie zu einem unverzichtbaren Schlüsselmaterial für fortgeschrittene Verfahren macht.

Ich... Anzeigeteile

Kupfer-Sputterziele werden häufig zur Bildung leitfähiger Verkabelungsschichten bei der Herstellung von LCD-, OLED- und anderen Flachbildschirmen verwendet.Kupfer weist im Vergleich zu herkömmlichen Materialien einen geringeren Widerstand auf, der die Anzeigeschwindigkeit und Energieeffizienz verbessert.

Ich... Photovoltaik-Industrie

Kupferziele spielen eine entscheidende Rolle bei der Herstellung von CIGS (Copper Indium Gallium Selenide) Dünnschicht-Solarzellen.Sie tragen wesentlich zur höheren photoelektrischen Umwandlungseffizienz und langfristigen Stabilität des Geräts bei..

Ich... Kraftbatterien
Kupfersputterziele werden auch bei der Sputterbeschichtung von Lithiumbatterieelektroden verwendet, um die Haftung und Leitfähigkeit der Elektroden zu verbessern,die Batteriezyklusdauer und die Energiedichte zu verbessern.

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