Target sputtering tembaga Tiongkok (target sputtering Cu)

Target penyemprotan tembaga kemurnian tinggi, Target tembaga khusus/planar/rotary, target tembaga Pemasok lapisan penyemprotan

Sifat-sifat fisik material secara langsung menentukan kualitas film dan efisiensi produksi dalam lapisan penyemprotan vakum.dengan konduktivitas yang sangat baik dan konduktivitas termal yang luar biasa, telah menjadi "bahan kunci" di bidang manufaktur kelas atas seperti manufaktur semikonduktor, panel tampilan, industri fotovoltaik, dan baterai daya.Keuntungan kinerja unik mereka tidak hanya memastikan stabilitas dan efisiensi proses penyemprotan tetapi juga memberikan produk dilapisi dengan fungsi dan keandalan yang sangat baik.

 Keuntungan Utama dari Target Sputtering Tembaga:Kebersihan dan Ukuran Biji

Aku Ultra tinggi kemurnian, sangat rendah kotoran

Menggunakan tembaga elektrolisis kemurnian tinggi mulai dari 99,9% (3N) hingga 99,9999% (6N) sebagai bahan baku, proses pemurnian multi-langkah (rafining elektrolitik,zona pemurnian) digunakan untuk ketat mengendalikan kotoran seperti oksigen, belerang, besi, dll, memastikan film sputtered seragam dan bebas cacat yang memenuhi persyaratan kinerja komponen elektronik presisi.

Aku Keseragaman Ukuran Biji

Target penyemprotan tembaga menunjukkan butiran yang tersusun rapat dengan orientasi (tekstur) yang konsisten di bawah pemeriksaan mikroskopis.Mikrostruktur yang dioptimalkan ini memastikan stabilitas tinggi selama proses penyemprotan dan menjamin kualitas film yang seragam.

Aku Sifat Fisik yang Luar Biasa, Sputtering yang Stabil

Tembaga adalah logam oranye kemerahan dengan titik leleh 1083°C, kepadatan 8,96g/cm³, dan titik didih 2567 °C. Ditandai dengan konduktivitas termal dan listrik yang superior, target tembaga memfasilitasi disipasi panas yang cepat selama sputtering frekuensi tinggi.Ini secara efektif mencegah deformasi atau retakan yang disebabkan oleh tekanan termal lokal, memastikan proses deposit yang terus menerus, stabil, dan hasil tinggi.

Aku Pembentukan presisi, kompatibilitas yang kuat

Mendukung kustomisasi berbagai spesifikasi seperti target datar, target putar, dan bentuk yang disesuaikan, dengan akurasi ukuran dikendalikan dalam ± 0,1mm._a≤ 0,8μm, sangat kompatibel dengan peralatan penyemprot arus utama seperti penyemprot magnetron dan penyemprot sinar ion, mengurangi fenomena busur selama penyemprot.

Bidang Aplikasi Utama dari sasaran penyemprotan tembaga

Aku Produksi Semikonduktor

Target penyemprotan tembaga banyak digunakan dalam lapisan interkoneksi logam (seperti interkoneksi Cu) dalam pembuatan chip semikonduktor.Dengan konduktivitas listrik dan termal yang unggul mereka secara efektif mengurangi resistensi dan konsumsi daya, membuat mereka bahan kunci yang sangat diperlukan dalam proses canggih.

Aku Panel Tampilan

Target penyemprotan tembaga sering digunakan untuk membentuk lapisan kabel konduktif dalam produksi LCD, OLED, dan layar datar lainnya.Tembaga memiliki ketahanan yang lebih rendah yang meningkatkan kecepatan respon layar dan efisiensi energi dibandingkan dengan bahan tradisional.

Aku Industri fotovoltaik

Target tembaga memainkan peran penting dalam pembuatan sel surya film tipis CIGS (Copper Indium Gallium Selenide).Mereka berkontribusi secara signifikan pada efisiensi konversi fotoelektrik yang unggul dan stabilitas perangkat jangka panjang.

Aku Baterai Daya
Target penyemprotan tembaga juga digunakan dalam perawatan lapisan penyemprotan elektroda baterai lithium, meningkatkan adhesi dan konduktivitas elektroda,membantu meningkatkan umur siklus baterai dan kepadatan energi.

Minta penawaran target tembaga

Silahkan tentukan tingkat kemurnian yang diperlukan, ukuran target, jumlah dan persyaratan pelat pendukung atau ikatan ketikamenghubungi APG. Menjelajahitarget penyemprotanuntuk bahan terkait.