৯৯.৫% - ৯৯.৯৫% বিশুদ্ধতা টাইটানিয়াম স্পাটার টার্গেট ক্ষয় প্রতিরোধ ক্ষমতা Ti টার্গেট

ভৌত বাষ্প জমাট বাঁধন (পিভিডি) প্রযুক্তির মূল উপাদান হিসেবে টাইটানিয়াম টার্গেট কৌশলগত শিল্প যেমন সেমিকন্ডাক্টর, ডিসপ্লে,এবং স্বাস্থ্যসেবা তার উচ্চ বিশুদ্ধতা এবং সুনির্দিষ্ট কাঠামোগত নিয়ন্ত্রণ মাধ্যমেএর প্রযুক্তিগত অগ্রগতি তিনটি কৌশলগত স্তম্ভের মাধ্যমে বাস্তবায়িত হয়ঃ উপাদান কর্মক্ষমতা অপ্টিমাইজেশান, উন্নত উত্পাদন প্রক্রিয়া অগ্রণী,এবং উচ্চ মানের অ্যাপ্লিকেশন মধ্যে সম্প্রসারণ.

পারফরম্যান্সের দিক থেকে, টাইটানিয়াম লক্ষ্যমাত্রা পরমাণু স্তরের বিশুদ্ধতা নিয়ন্ত্রণ এবং মাইক্রোস্ট্রাকচার নিয়ন্ত্রণের মাধ্যমে প্রযুক্তিগতভাবে অন্যান্য প্রতিপক্ষকে প্রাধান্য দেয়।সেমিকন্ডাক্টর গ্রেডের পণ্যগুলির বিশুদ্ধতা 5N-6N, এবং অশুদ্ধতার পরিমাণ পিপিএম থেকে পিপিবি স্তরে হ্রাস পায়, যা কার্যকরভাবে ইলেক্ট্রোম্যাগ্রেশন ব্যর্থতা রোধ করে।তাত্ত্বিক সীমাতে পৌঁছেছে, যার কণার আকার ≤50 μm, যা EUV লিথোগ্রাফির জন্য প্রয়োজনীয় ফিল্মের সমতা নিশ্চিত করে।

টাইটানিয়াম টার্গেটের চমৎকার বৈশিষ্ট্য

আমি ভাল যান্ত্রিক বৈশিষ্ট্য

টাইটানিয়াম উচ্চ শক্তি এবং কম ঘনত্ব আছে, তাই টাইটানিয়াম ফিল্ম বিভিন্ন কাঠামোগত অ্যাপ্লিকেশন উচ্চতর যান্ত্রিক বৈশিষ্ট্য প্রদর্শন।

আমি ক্ষয় প্রতিরোধের

টাইটানিয়াম বিভিন্ন রাসায়নিক পরিবেশে চমৎকার জারা প্রতিরোধ ক্ষমতা আছে। Ti ফিল্ম সমুদ্রের পানি, অ্যাসিড এবং ক্ষারীয় পরিবেশে ইত্যাদি কার্যকর সুরক্ষা প্রদান করে।

আমি উচ্চ তাপমাত্রায় স্থিতিশীলতা

টাইটানিয়াম উচ্চ তাপমাত্রায় ভাল স্থিতিশীলতা আছে, অতএব, টাইটানিয়াম ফিল্ম উচ্চ তাপমাত্রা ক্ষেত্র যেমন মহাকাশ এবং পারমাণবিক শক্তি ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়।

আমি আলংকারিক বৈশিষ্ট্য

টাইটানিয়াম একটি প্যাসিভ অক্সাইড স্তরের নিয়ন্ত্রিত বৃদ্ধি থেকে উদ্ভূত ব্যতিক্রমী আলংকারিক বৈশিষ্ট্য প্রদর্শন করে।সিনেমা ব্যবহার করা হয় উচ্চ মানের উপরিভাগ চিকিত্সা জন্য ভোক্তা পণ্য যেমন যথার্থ ঘড়ি, চশমা, এবং গয়না ০যাতে টেকসই, নান্দনিকভাবে আকর্ষণীয় সমাপ্তি অর্জন করা যায় এবং পরিধান এবং রাসায়নিক আক্রমণের উচ্চ প্রতিরোধের সাথে।

আমি উচ্চ প্রতিরোধ ক্ষমতা

সাধারণভাবে ব্যবহৃত ধাতব পরিবাহী (যেমন, Cu, Al) এর তুলনায় খাঁটি টাইটানিয়ামের প্রতিরোধ ক্ষমতা রুম তাপমাত্রায় উল্লেখযোগ্যভাবে বেশি (প্রায় 42.0 × 10−8 Ω · m) ।উচ্চ বিশুদ্ধতা টাইটানিয়াম (যেমন 4N5 গ্রেড) interstitial অমেধ্য (O, এন, এবং সি) প্রতিরোধ ক্ষমতা হ্রাস এবং বৈদ্যুতিক পরিবাহিতা সর্বাধিক করতে।

টাইটানিয়াম টার্গেটের বিস্তৃত প্রয়োগ

আমি সেমিকন্ডাক্টর উৎপাদন

Cu ইন্টারকানেক্টিভিটির জন্য ডিফিউশন বাধাঃ একটি গুরুত্বপূর্ণ ডিফিউশন বাধা স্তর হিসাবে, টাইটানিয়াম তামার পরমাণুগুলিকে সংবেদনশীল সিলিকন সাবস্ট্র্যাটে স্থানান্তরিত হতে বাধা দেয়;এছাড়াও একটি কার্যকর আঠালো প্রচারক হিসাবে কাজ করে, যা তামার আন্তঃসংযোগ এবং অন্তর্নিহিত স্তরগুলির মধ্যে একটি শক্তিশালী বন্ধন নিশ্চিত করে।টাইটানিয়াম টার্গেট বিশুদ্ধতা এবং ফিল্ম মানের জন্য প্রয়োজনীয়তা ক্রমবর্ধমান কঠোর হয়ে ওঠে, চিপ উত্পাদন ফলন এবং ডিভাইস কর্মক্ষমতা সরাসরি প্রভাবিত।

 আমি প্রদর্শন প্যানেল

টিএফটি অ্যারেতে, এটি ইলেক্ট্রোড উপাদান (যেমন, Mo-Ti) বা কী ওহমিক যোগাযোগ / আঠালো স্তর হিসাবে কাজ করে।

আইটিও স্বচ্ছ ইলেক্ট্রোডের জন্য একটি শক্তিশালী সংযুক্তি "ভিত্তি" প্রদান করে।

 আমি ফোটোভোলটাইক শিল্প

উচ্চ দক্ষতার ব্যাটারি ব্যাক যোগাযোগ এবং আঠালো স্তর জন্য সর্বোত্তম পছন্দ

 আমি অপটিক্যাল ডিভাইস উৎপাদন

এআর লেপ, ফিল্টার এবং স্ব-পরিচ্ছন্ন কাচের ক্ষেত্রে উচ্চতর অপটিক্যাল পারফরম্যান্সের জন্য টিআই বা টিআইও 2 ফিল্মের উচ্চ-পরিচ্ছন্নতা জমাট বাঁধাই অপরিহার্য।বিশুদ্ধতা আলোর ছড়িয়ে পড়া এবং শোষণের ক্ষতি হ্রাস করে অপটিক্যাল সীমা নির্ধারণ করে, যা সব উন্নত সিস্টেমের কার্যকারিতা নিশ্চিত করে।