99,5% - 99,95% de pureza Alvo de Sputtering de Titânio Resistência à Corrosão Alvo de Ti

Alvo de titânio, como material central na tecnologia de deposição física de vapor (PVD), está capacitando profundamente indústrias estratégicas como semicondutores, displays e saúde através de sua alta pureza e controle estrutural preciso. Seus avanços tecnológicos são realizados em três pilares estratégicos: a otimização do desempenho do material, o pioneirismo em processos de fabricação avançados e a expansão para aplicações de alto valor.

Em termos de desempenho, os alvos de titânio tecnologicamente superam outros concorrentes através do controle de pureza em nível atômico e regulação da microestrutura. Produtos de grau semicondutor têm uma pureza de 5N-6N, e o teor de impurezas é reduzido de níveis ppm para ppb, o que efetivamente previne falhas de electromigração. O alvo de Ti atinge densidade controlada com precisão de 4,506-4,51g/cm³, atingindo o limite teórico, com tamanho de grão de ≤50 μm, garantindo a planicidade do filme conforme exigido para litografia EUV.

Excelentes Características do Alvo de Titânio

l Boas Propriedades Mecânicas

O titânio tem alta resistência e baixa densidade, portanto, filmes de titânio exibem propriedades mecânicas superiores em várias aplicações estruturais.

l Resistência à Corrosão

O titânio tem excelente resistência à corrosão em diferentes ambientes químicos. Filmes de Ti fornecem proteção eficaz em ambientes de água do mar, ácidos e alcalinos, etc.

l Estabilidade em Alta Temperatura

O titânio tem boa estabilidade em altas temperaturas, portanto, filmes de titânio são amplamente empregados em campos de alta temperatura como aeroespacial e energia nuclear.

l Propriedades Decorativas

O titânio exibe propriedades decorativas excepcionais derivadas do crescimento controlado de uma camada de óxido passivo. Filmes são utilizados em tratamentos de superfície de ponta para produtos de consumo — como relógios de precisão, óculos e joias — para alcançar acabamentos duráveis e esteticamente agradáveis com alta resistência ao desgaste e ataque químico.

l Alta Resistividade

A resistividade do titânio puro é significativamente maior (aproximadamente 42,0 × 10⁻⁸ Ω·m) à temperatura ambiente do que a de condutores metálicos comumente usados (por exemplo, Cu, Al). O titânio de alta pureza (como o grau 4N5) é otimizado minimizando impurezas intersticiais (O, N e C) para reduzir a resistividade e maximizar a condutividade elétrica.

Amplas Aplicações do Alvo de Titânio

l Fabricação de Semicondutores

Barreira de Difusão para Interconexão de Cu: Como uma camada crucial de barreira de difusão, o titânio impede que átomos de cobre migrem para substratos de silício sensíveis; também funciona como um promotor de adesão eficaz, garantindo uma ligação robusta entre as interconexões de cobre e as camadas subjacentes. À medida que os processos de chip avançam (7nm, 5nm, 3nm e além), os requisitos para a pureza do alvo de titânio e a qualidade do filme tornam-se cada vez mais rigorosos, impactando diretamente o rendimento da fabricação de chips e o desempenho do dispositivo.

 l Painéis de Display

Em arrays TFT, atua como componentes de eletrodo (por exemplo, Mo-Ti) ou camadas chave de contato ôhmico/adesão.

Fornece uma "base" de fixação forte para eletrodos transparentes ITO.

 l Indústria Fotovoltaica

Escolha ideal para contato traseiro de bateria de alta eficiência e camadas de adesão.

 l Fabricação de Dispositivos Ópticos

A deposição de alta pureza de filmes de Ti ou TiO₂ é essencial para um desempenho óptico superior em revestimentos AR, filtros e vidro autolimpante. A pureza determina os limites ópticos minimizando a dispersão de luz e as perdas de absorção, garantindo a funcionalidade eficiente em todos os sistemas avançados.