990,5% - 99,95% de pureza Titanio Sputter objetivo Resistencia a la corrosión Ti objetivo

El objetivo de titanio, como material central en la tecnología de deposición física de vapor (PVD), está empoderando profundamente a industrias estratégicas como la de semiconductores, pantallas y atención médica a través de su alta pureza y control estructural preciso. Sus avances tecnológicos se materializan en tres pilares estratégicos: la optimización del rendimiento del material, la pionera de procesos de fabricación avanzados y la expansión a aplicaciones de alto valor.

En términos de rendimiento, los objetivos de titanio tecnológicamente superan a sus contrapartes a través del control de pureza a nivel atómico y la regulación de la microestructura. Los productos de grado semiconductor tienen una pureza de 5N-6N, y el contenido de impurezas se reduce de niveles ppm a ppb, lo que previene eficazmente la falla por electromigración. El objetivo Ti alcanza una densidad controlada con precisión de 4.506-4.51 g/cm³, alcanzando el límite teórico, con un tamaño de grano de ≤50 μm, asegurando la planitud de la película según lo requerido para la litografía EUV.

Excelentes Características del Objetivo de Titanio

l Buenas Propiedades Mecánicas

El titanio tiene alta resistencia y baja densidad, por lo que las películas de titanio exhiben propiedades mecánicas superiores en diversas aplicaciones estructurales.

l Resistencia a la Corrosión

El titanio tiene una excelente resistencia a la corrosión en diferentes entornos químicos. Las películas de Ti proporcionan protección efectiva en agua de mar, entornos ácidos y alcalinos, etc.

l Estabilidad a Altas Temperaturas

El titanio tiene buena estabilidad a altas temperaturas, por lo tanto, las películas de titanio se emplean ampliamente en campos de alta temperatura como la aeroespacial y la energía nuclear.

l Propiedades Decorativas

El titanio exhibe propiedades decorativas excepcionales derivadas del crecimiento controlado de una capa de óxido pasivo. Las películas se utilizan en tratamientos de superficie de alta gama para productos de consumo, como relojes de precisión, gafas y joyas, para lograr acabados duraderos y estéticamente agradables con alta resistencia al desgaste y al ataque químico.

l Alta Resistividad

La resistividad del titanio puro es significativamente mayor (aproximadamente 42.0 × 10⁻⁸ Ω·m) a temperatura ambiente que la de los conductores metálicos comúnmente utilizados (por ejemplo, Cu, Al). El titanio de alta pureza (como el grado 4N5) se optimiza minimizando las impurezas intersticiales (O, N y C) para reducir la resistividad y maximizar la conductividad eléctrica.

Amplias Aplicaciones del Objetivo de Titanio

l Fabricación de Semiconductores

Barrera de Difusión para Interconexión de Cu: Como capa barrera de difusión crucial, el titanio evita que los átomos de cobre migren a sustratos de silicio sensibles; también funciona como un promotor de adhesión efectivo, asegurando una unión robusta entre las interconexiones de cobre y las capas subyacentes. A medida que avanzan los procesos de chip (7nm, 5nm, 3nm y más allá), los requisitos de pureza del objetivo de titanio y la calidad de la película se vuelven cada vez más estrictos, lo que impacta directamente en el rendimiento de fabricación del chip y el rendimiento del dispositivo.

 l Paneles de Pantalla

En matrices TFT, actúa como componentes de electrodos (por ejemplo, Mo-Ti) o capas clave de contacto óhmico/adhesión.

Proporciona una base de unión sólida para electrodos transparentes ITO.

 l Industria Fotovoltaica

Opción óptima para capas de contacto posterior y adhesión de baterías de alta eficiencia

 l Fabricación de Dispositivos Ópticos

La deposición de alta pureza de películas de Ti o TiO₂ es esencial para un rendimiento óptico superior en recubrimientos AR, filtros y vidrio autolimpiante. La pureza determina los límites ópticos al minimizar la dispersión de la luz y las pérdidas por absorción, asegurando una funcionalidad eficiente en todos los sistemas avanzados.