99,5% - 99,95% Kemurnian Target Sputter Titanium Ketahanan Korosi Target Ti

Target titanium, sebagai material inti dalam teknologi physical vapor deposition (PVD), sangat memberdayakan industri strategis seperti semikonduktor, layar, dan perawatan kesehatan melalui kemurniannya yang tinggi dan kontrol struktural yang presisi. Terobosan teknologinya terwujud dalam tiga pilar strategis: optimalisasi kinerja material, perintisan proses manufaktur canggih, dan ekspansi ke aplikasi bernilai tinggi.

Dalam hal kinerja, target titanium secara teknologi mengungguli rekan-rekannya melalui kontrol kemurnian tingkat atom dan regulasi mikrostruktur. Produk tingkat semikonduktor memiliki kemurnian 5N-6N, dan kandungan pengotor berkurang dari tingkat ppm menjadi ppb, yang secara efektif mencegah kegagalan migrasi elektromagnetik. Target Ti mencapai kepadatan yang dikontrol secara presisi sebesar 4,506-4,51 g/cm³, mencapai batas teoritis, dengan ukuran butir ≤50 μm, memastikan kerataan film sesuai kebutuhan untuk litografi EUV.

Fitur Unggulan Target Titanium

l Sifat Mekanik yang Baik

Titanium memiliki kekuatan tinggi dan kepadatan rendah, sehingga film titanium menunjukkan sifat mekanik yang unggul dalam berbagai aplikasi struktural.

l Ketahanan Korosi

Titanium memiliki ketahanan korosi yang sangat baik di berbagai lingkungan kimia. Film Ti memberikan perlindungan efektif di lingkungan air laut, asam, dan basa, dll.

l Stabilitas Suhu Tinggi

Titanium memiliki stabilitas yang baik pada suhu tinggi, oleh karena itu, film titanium banyak digunakan di bidang suhu tinggi seperti kedirgantaraan dan energi nuklir.

l Sifat Dekoratif

Titanium menunjukkan sifat dekoratif yang luar biasa yang berasal dari pertumbuhan terkontrol lapisan oksida pasif. Film digunakan dalam perawatan permukaan kelas atas untuk produk konsumen—seperti jam tangan presisi, kacamata, dan perhiasan—untuk mencapai hasil akhir yang tahan lama, estetis, dengan ketahanan tinggi terhadap keausan dan serangan kimia.

l Resistivitas Tinggi

Resistivitas titanium murni secara signifikan lebih tinggi (sekitar 42,0 × 10²&sup8; Ω·m) pada suhu kamar dibandingkan dengan konduktor logam yang umum digunakan (misalnya, Cu, Al). Titanium dengan kemurnian tinggi (seperti grade 4N5) dioptimalkan dengan meminimalkan pengotor interstisial (O, N, dan C) untuk mengurangi resistivitas dan memaksimalkan konduktivitas listrik.

Aplikasi Luas Target Titanium

l Manufaktur Semikonduktor

Penghalang Difusi untuk Interkonektivitas Cu: Sebagai lapisan penghalang difusi yang krusial, titanium mencegah atom tembaga bermigrasi ke substrat silikon yang sensitif; juga berfungsi sebagai promotor adhesi yang efektif, memastikan ikatan yang kuat antara interkoneksi tembaga dan lapisan di bawahnya. Seiring kemajuan proses chip (7nm, 5nm, 3nm, dan seterusnya), persyaratan untuk kemurnian target titanium dan kualitas film menjadi semakin ketat, secara langsung memengaruhi hasil manufaktur chip dan kinerja perangkat.

 l Panel Layar

Dalam array TFT, bertindak sebagai komponen elektroda (misalnya, Mo-Ti) atau lapisan kontak/adhesi ohmik utama.

Menyediakan "fondasi" lampiran yang kuat untuk elektroda transparan ITO.

 l Industri Fotovoltaik

Pilihan optimal untuk lapisan kontak belakang dan adhesi baterai efisiensi tinggi

 l Manufaktur Perangkat Optik

Deposisi film Ti atau TiO2 dengan kemurnian tinggi sangat penting untuk kinerja optik yang unggul dalam lapisan AR, filter, dan kaca pembersih mandiri. Kemurnian menentukan batas optik dengan meminimalkan hamburan cahaya dan kerugian penyerapan, memastikan fungsionalitas yang efisien di semua sistem canggih.