990,5% - 99,95% Độ tinh khiết Titanium Sputter mục tiêu Kháng ăn mòn Ti mục tiêu

Mục tiêu titan, như một vật liệu cốt lõi trong công nghệ lắng đọng hơi vật lý (PVD), đang trao quyền sâu sắc cho các ngành công nghiệp chiến lược như bán dẫn, hiển thị,và chăm sóc sức khỏe thông qua độ tinh khiết cao và kiểm soát cấu trúc chính xácNhững đột phá công nghệ của nó được thực hiện trên ba trụ cột chiến lược: tối ưu hóa hiệu suất vật liệu, tiên phong trong các quy trình sản xuất tiên tiến,và mở rộng sang các ứng dụng có giá trị cao.

Về hiệu suất, các mục tiêu titan công nghệ vượt trội hơn các đối tác khác thông qua kiểm soát độ tinh khiết ở cấp độ nguyên tử và điều chỉnh cấu trúc vi mô.Các sản phẩm chất lượng bán dẫn có độ tinh khiết 5N-6N, và hàm lượng tạp chất được giảm từ ppm xuống mức ppb, ngăn ngừa hiệu quả sự cố di chuyển điện.đạt đến giới hạn lý thuyết, với kích thước hạt ≤ 50 μm, đảm bảo độ phẳng của màng như yêu cầu cho EUV lithography.

Tính năng tuyệt vời của mục tiêu titan

Tôi. Tính chất cơ học tốt

Titanium có độ bền cao và mật độ thấp, vì vậy các tấm titanium thể hiện tính chất cơ học vượt trội trong các ứng dụng cấu trúc khác nhau.

Tôi. Chống ăn mòn

Titanium có khả năng chống ăn mòn tuyệt vời trong các môi trường hóa học khác nhau.

Tôi. Độ ổn định ở nhiệt độ cao

Titanium có độ ổn định tốt ở nhiệt độ cao, do đó, phim titanium được sử dụng rộng rãi trong các lĩnh vực nhiệt độ cao như hàng không vũ trụ và năng lượng hạt nhân.

Tôi. Tính chất trang trí

Titanium thể hiện các tính chất trang trí đặc biệt bắt nguồn từ sự phát triển được kiểm soát của một lớp oxit thụ động.phim được sử dụng trong xử lý bề mặt cao cấp cho các sản phẩm tiêu dùng như đồng hồ chính xác, kính và đồ trang sức để đạt được kết thúc bền, thẩm mỹ với khả năng chống mòn và tấn công hóa học cao.

Tôi. Kháng cao

Chống của titan tinh khiết cao hơn đáng kể (khoảng 42,0 × 10−8 Ω · m) ở nhiệt độ phòng so với các chất dẫn kim loại thường được sử dụng (ví dụ: Cu, Al).Titanium tinh khiết cao (như lớp 4N5) được tối ưu hóa bằng cách giảm thiểu các tạp chất giữa (O, N, và C) để giảm điện trở và tối đa hóa khả năng dẫn điện.

Ứng dụng rộng rãi của mục tiêu titan

Tôi. Sản xuất bán dẫn

Rào cản khuếch tán cho sự kết nối giữa Cu: Là một lớp rào cản khuếch tán quan trọng, titan ngăn chặn các nguyên tử đồng di cư vào các chất nền silic nhạy cảm;cũng hoạt động như một nhà thúc đẩy gắn kết hiệu quả, đảm bảo một liên kết mạnh mẽ giữa các kết nối đồng và các lớp nền tảng.các yêu cầu về độ tinh khiết mục tiêu titan và chất lượng phim ngày càng nghiêm ngặt, ảnh hưởng trực tiếp đến năng suất sản xuất chip và hiệu suất thiết bị.

 Tôi. Bảng hiển thị

Trong các mảng TFT, hoạt động như các thành phần điện cực (ví dụ: Mo-Ti) hoặc các lớp liên lạc / bám sát ohmic chính.

Cung cấp một "nền tảng" đính kèm mạnh mẽ cho các điện cực trong suốt ITO.

 Tôi. Ngành công nghiệp quang điện

Lựa chọn tối ưu cho các lớp tiếp xúc và gắn kết pin hiệu quả cao

 Tôi. Sản xuất thiết bị quang học

Sự lắng đọng tinh khiết cao của phim Ti hoặc TiO2 là điều cần thiết cho hiệu suất quang học vượt trội trong lớp phủ AR, bộ lọc và kính tự làm sạch.Độ tinh khiết xác định giới hạn quang học bằng cách giảm thiểu sự phân tán ánh sáng và mất mát hấp thụ, đảm bảo chức năng hiệu quả trong tất cả các hệ thống tiên tiến.