logo
قیمت خوب  آنلاین

جزئیات محصولات

Created with Pixso. خونه Created with Pixso. محصولات Created with Pixso.
کندوپاش مواد هدف
Created with Pixso. هدف سیلیکون (Si Sputtering Target)
اطلاعات دقیق
محل منبع:
چین
گواهی:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
خلوص:
خلوص سیلیکون کریستالی 99.999% و خلوص Hsi 99.99% است.
تراکم:
2.33 گرم بر سانتی متر مکعب
نام:
هدف کندوپاش سیلیکونی (هدف کندوپاش Si)
تشکیل فرآیند:
اسپری، تف جوشی، رشد کریستال
مشخصات محصول:
هدف تخت، هدف دوار
فیلدهای کاربردی:
ساخت دستگاه های نوری، ساخت نیمه هادی، ساخت حسگر
جزئیات بسته بندی:
بسته بندی خلاء مهر و موم شده، بسته بندی شده برای نگهداری و حمل و نقل
قابلیت ارائه:
عرضه پایدار
برجسته کردن:

هدف کندوپاش سیلیکونی

,

Si Sputtering Target

,

هدف سیلیکون Si

توضیحات محصول

مواد هدف سیلیکون با خالصیت بالا: مواد اصلی برای رسوب فیلم نازک

مواد هدف از سیلیکون اسپترینگ در فرآیندهای تثبیت بخار فیزیکی (PVD) استفاده می شود، عمدتا برای تثبیت لایه های متوسط مانند اکسید سیلیکون، نیترید سیلیکون و هیدرید سیلیکون.می توان آن را به سیلیکون بلوری و انواع HSi تقسیم کرد.هدف های سیلیکون معمولا خاکستری تیره با ظاهر نیمه فلزی و تراکم حدود 2.33 گرم / سانتی متر است. نقطه ذوب سیلیکون 1414 درجه سانتی گراد و نقطه جوش آن 3265 درجه سانتی گراد است.سیلیکون دارای یک ضریب رسانایی حرارتی بالا (149 W·m−1·K−1) و رسانایی حرارتی عالی استعلاوه بر این، مواد هدف سیلیکون دارای سختی خوب، خواص نوری، مقاومت در برابر فرسایش و مقاومت بسیار عالی در برابر خوردگی هستند.

خواص فوق العاده مواد هدف سیلیکون:

 

من خلوص بالا عملکرد ثابت فیلم نازک را تضمین می کند


سیلیکون بلوری دارای پاکی 99.999٪ است، در حالی که HSi پاکی 99.99٪ است

 

 

من یکنواختی و تراکم فیلم نازک عالی


اهداف سیلیکون اسپترینگ دارای بهره وری اسپترینگ بالا هستند و با تجهیزات پوشش خلاء مختلف در فرآیند PVD سازگار هستند.اتم های سیلیکون چسبندگی خوبی به زیربناهای معمولی دارند (مانند شیشه)، فلز، وافرهای سیلیکون) ، تشکیل فیلم های پایدار و غیر پوسته شده که نیازهای بالایی از قابلیت اطمینان را برآورده می کنند.

 

 

من میزان اسپتر شدن و چسبندگی خوب


رسانایی حرارتی خوب سیلیکون به سرعت از سطح هدف گرمایی را از بین می برد و از گرم شدن بیش از حد محلی جلوگیری می کند. همچنین رسانایی آن برای اسپتر کردن ماگنترون ضروری است.کمک به رسوب موثر فیلم.

 

 کاربردهای گسترده ای از مواد هدف سیلیکون

 

من تولید دستگاه های نوری


خلوص بالا: اهداف سیلیکون اسپتر کردن شفافیت، ثبات و دقت دستگاه های نوری را تضمین می کنند و عملکرد و قابلیت اطمینان آنها را افزایش می دهند. لایه های ضد انعکاس و محافظ:در ارتباطات فیبر نوری ومدارهای نوری یکپارچه، فیلم های دی اکسید سیلیکون به عنوان مواد هدایت موج برای انتقال و پردازش سیگنال های نوری استفاده می شود.

 

 

من تولید نیمه هادی

 

استفاده می شود برای آماده سازی سبسترات و مواد بسته بندی برای LED ها، فراهم کردن بهبود در کارایی نور و ثبات LED ها.

 

 

من تولید سنسور

 

استفاده می شود در تولید عناصر سنسور و مدار پردازش سیگنال، افزایش حساسیت و دقت سنسورها

 

 

درخواست یک نرخ هدف سیلیکون اسپاتر

لطفا درجه مواد، خلوص مورد نیاز، ابعاد مورد نظر، مقدار و الزامات چسبندگی را مشخص کنیدتماس با APG. در حال کشف ماهدف های اسپوتینگبرای مواد مرتبط.