logo
Dobra cena.  w Internecie

szczegółowe informacje o produktach

Created with Pixso. Do domu Created with Pixso. Produkty Created with Pixso.
Tarcza rozpylania metalu
Created with Pixso. Cel napylania molibdenu (cel napylania Mo)
Szczegółowe informacje
Miejsce pochodzenia:
Chiny
Orzecznictwo:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
Czystość:
99,95%-99,999%
Gęstość:
10,28 g/cm2
Oporność:
Wynosi 5,17 × 10⁻¹⁰ Ω·cm w temperaturze 0℃; 24,6 × 10⁻¹⁰ Ω·cm przy 800℃; i 72 × 10⁻¹⁰ Ω·cm przy 2400
nazwa:
Cel napylania molibdenu (cel napylania Mo)
Proces tworzenia:
Spiekanie na gorąco
Specyfikacje produktu:
Cel płaski, cel obrotowy
Pola aplikacji:
Przemysł półprzewodników, panele wyświetlaczowe, przemysł fotowoltaiczny, szkło niskoemisyjne
Szczegóły pakowania:
Opakowanie zamykane próżniowo, pakowane w kartony do przechowywania i transportu
Możliwość Supply:
Stabilne dostawy
Podkreślić:

Cel napylania molibdenu

,

Mo rozpylający cel

,

Cel molibdenu

Opis produktu

Molibden Sputtering Target, wschodząca gwiazda materiałów o wysokiej wydajności

Wraz z ciągłym postępem nauki o materiałach, cele rozpylania molibdenu stały się kluczowym czynnikiem napędowym w różnych dziedzinach.fotonapalne, a także sektorów wytwórczych wysokiej klasy, zapewniających wyjątkowe zalety wydajności, które napędzają innowacje przemysłowe.

Doskonałe właściwościCele do rozpylania molibdenu

 

Ja... Ultra wysoka czystość


Cele rozpylania molibdenu mają zazwyczaj wysoką czystość ≥ 99,95%, a niektóre osiągają 5N (99,999%).zapewnia stabilną wydajność elektryczną filmów rozpylanego, tworząc solidne podstawy dla zastosowań o wysokiej precyzji, takich jak produkcja chipów półprzewodnikowych.

 

 

Ja... Odporność na utlenianie w wysokich temperaturach


Przy bardzo wysokiej temperaturze topnienia 2623°C, przyrost masy w wyniku utleniania w powietrzu w temperaturze 1000°C wynosi < 0,1 mg/cm2 (100 godzin).przedsiębiorstwo fotowoltaiczne wykorzystujące cele Mo do przygotowania filmów TCO nie wykazało awarii po 500 godzinach badania w temperaturze 85°C/85% RH, wykazując wyjątkową stabilność w warunkach wysokich temperatur i trudnych warunków.

 

 

Ja... Dokładna struktura i doskonała przewodność


Gęstość: 10,28 g/cm3 (99% teoretyczne), wielkość ziarna < 50 μm, płaskość ≤ 0,05 mm (oceniany Φ100 mm). Doskonała przewodność Mo o wysokiej czystości (rezystywność 5.2 μΩ·cm) zapewnia skuteczne przenoszenie prądu podczas rozpylaniaDokładna konstrukcja jest kompatybilna z wysokoprecyzyjnym sprzętem do rozpylania, zapewniając dokładność i jednolitość powłoki.

 

 ZastosowanieCele do rozpylania molibdenu

 

Ja... Przemysł półprzewodników


Cele molibdenowe są stosowane w przemyśle półprzewodnikowym do przygotowania elektrod dolnych do płytek metalowych z krzemu, zapewniając stabilny prąd i zapewniając jakość płytek.

 

 

Ja... Panel wyświetlania


Molibdenowy materiał Target jest stosowany w płynno-krystalicznych ekranach (LCD) w celu zwiększenia jasności, kontrastu, koloru i długości życia.

 

 

Ja... Przemysł fotowoltaiczny


Mo Sputtering Target są wykorzystywane w produkcji ogniw słonecznych jako materiały elektrodowe, zwiększające wydajność konwersji.

 


Ja... Szkło o niskiej emisywności


Cele molibdenowe są stosowane w produkcji STN/TN/TFT-LCD oraz szkła o niskiej emisji, nadającego się do różnych systemów powlekania.