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Detalles de los productos

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Objetivo de pulverización de metales
Created with Pixso. Objetivo de pulverización catódica de molibdeno (objetivo de pulverización catódica de Mo)
Información detallada
Lugar de origen:
Porcelana
Certificación:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
Pureza:
99.95% a 99,999%
Densidad:
10,28 g/cm
Resistividad:
Mide 5,17 × 10⁻¹⁰ Ω·cm a 0℃; 24,6 × 10⁻¹⁰ Ω·cm a 800℃; y 72 × 10⁻¹⁰ Ω·cm a 2400℃
nombre:
Objetivo de pulverización catódica de molibdeno (objetivo de pulverización catódica de Mo)
Proceso de formación:
Sinterización por prensado en caliente
Especificaciones del producto:
Objetivo plano, objetivo giratorio
Campos de aplicación:
Industria de semiconductores, Paneles de visualización, Industria fotovoltaica, Vidrio de baja emisi
Detalles de empaquetado:
Envasado al vacío, embalado en cajas para almacenamiento y transporte.
Capacidad de la fuente:
Fuente estable
Resaltar:

Objetivo de pulverización de molibdeno

,

Objetivo de farfulla Mo

,

Objetivo de molibdeno

Descripción de producto

Objetivo de pulverización de molibdeno, una estrella en ascenso en materiales de alto rendimiento

Con el avance continuo de la ciencia de materiales, los objetivos de pulverización de molibdeno se han convertido en un motor clave en varios campos. Los objetivos de molibdeno son críticos en los sectores de semiconductores, pantallas, fotovoltaica y fabricación de alta gama, ofreciendo ventajas de rendimiento únicas que impulsan la innovación industrial.

Excelentes propiedades deObjetivos de pulverización de molibdeno

 

 Ultra alta pureza


Los objetivos de pulverización de molibdeno suelen tener una alta pureza de ≥99,95%, y algunos alcanzan 5N (99,999%). El contenido extremadamente bajo de impurezas, como Fe y Ni <50ppm, y O <200ppm, garantiza un rendimiento eléctrico estable de las películas pulverizadas, sentando una base sólida para aplicaciones de alta precisión como la fabricación de chips semiconductores.lResistencia a la oxidación a alta temperatura

 

 

 l


Estructura precisa y excelente conductividadDensidad: 10,28 g/cm³ (99% teórico), tamaño de grano <50 μm, planitud ≤0,05 mm (objetivo de Ø100 mm). La excelente conductividad del Mo de alta pureza (resistividad 5,2 μΩ·cm) garantiza una transferencia de corriente eficiente durante la pulverización, mejorando la eficiencia de la pulverización. El diseño estructural preciso es compatible con equipos de pulverización de alta precisión, lo que garantiza la precisión y uniformidad del recubrimiento.

 

 

 Objetivos de pulverización de molibdeno


lIndustria de semiconductores

 

 Los objetivos de molibdeno se utilizan en la industria de semiconductores para preparar electrodos inferiores para obleas de silicio metálico, proporcionando una corriente estable y garantizando la calidad de la oblea.l

 

 El material objetivo de molibdeno se utiliza en pantallas de cristal líquido (LCD) para mejorar el brillo, el contraste, el color y la vida útil.


l

 

 

 Los objetivos de pulverización de Mo se utilizan en la fabricación de células solares como materiales de electrodo, mejorando la eficiencia de conversión.


l

 

 

 Los objetivos de molibdeno se utilizan en la producción de LCD STN/TN/TFT y vidrio de baja emisividad, adecuados para varios sistemas de recubrimiento.