logo
Giá tốt. trực tuyến

Chi tiết sản phẩm

Created with Pixso. Nhà Created with Pixso. Các sản phẩm Created with Pixso.
Mục tiêu Phun Kim loại
Created with Pixso. Mục tiêu phún xạ Molypden (Mục tiêu phún xạ Mo)
Thông tin chi tiết
Nguồn gốc:
Trung Quốc
Chứng nhận:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
độ tinh khiết:
99,95%-99,999%
Tỉ trọng:
10,28g/cm
Điện trở suất:
Nó là 5,17 × 10⁻¹⁰ Ω·cm ở 0oC; 24,6 × 10⁻¹⁰ Ω·cm ở 800oC; và 72 × 10⁻¹⁰ Ω·cm ở 2400oC
tên:
Mục tiêu phún xạ Molypden (Mục tiêu phún xạ Mo)
Quá trình hình thành:
Thiêu kết ép nóng
Thông số sản phẩm:
Mục tiêu phẳng, mục tiêu xoay
Trường ứng dụng:
Công nghiệp bán dẫn, Tấm hiển thị, Công nghiệp quang điện, Kính phát xạ thấp
chi tiết đóng gói:
Đóng gói hút chân không, đóng thùng để bảo quản và vận chuyển
Khả năng cung cấp:
nguồn cung ổn định
Làm nổi bật:

Mục tiêu phún xạ Molypden

,

Mục tiêu phún xạ Mo

,

Mục tiêu Molypden

Mô tả sản phẩm

Molybdenum Sputtering Target, một ngôi sao đang mọc trong các vật liệu hiệu suất cao

Với sự tiến bộ liên tục của khoa học vật liệu, Molybdenum sputtering mục tiêu đã nổi lên như là một động lực quan trọng trong các lĩnh vực khác nhau.Photovoltaic, và các lĩnh vực sản xuất cao cấp, mang lại lợi thế hiệu suất độc đáo thúc đẩy đổi mới công nghiệp.

Tính chất tuyệt vời củaCác mục tiêu phun molybden

 

Tôi. Độ tinh khiết cực cao


Các mục tiêu phun molybden thông thường có độ tinh khiết cao ≥ 99,95%, với một số đạt đến 5N (99,999%).đảm bảo hiệu suất điện ổn định của các phim phun, đặt nền tảng vững chắc cho các ứng dụng chính xác cao như sản xuất chip bán dẫn.

 

 

Tôi. Chống oxy hóa ở nhiệt độ cao


Với điểm nóng chảy cực cao là 2623 °C, tăng trọng lượng từ oxy hóa trong không khí ở 1000 °C là < 0,1mg/cm2 (100 giờ).một công ty quang điện sử dụng các mục tiêu Mo để chuẩn bị các phim TCO không có lỗi sau 500 giờ dưới thử nghiệm 85 °C/85% RH, thể hiện sự ổn định xuất sắc trong môi trường nhiệt độ cao và khắc nghiệt.

 

 

Tôi. Cấu trúc chính xác và khả năng dẫn điện tuyệt vời


Mật độ: 10,28 g / cm3 (99% lý thuyết), kích thước hạt < 50μm, độ phẳng ≤ 0,05mm (mục tiêu Φ100mm).2 μΩ · cm) đảm bảo chuyển điện hiệu quả trong quá trình phunThiết kế cấu trúc chính xác tương thích với thiết bị phun phun chính xác cao, đảm bảo độ chính xác và đồng nhất của lớp phủ.

 

 Các ứng dụng củaCác mục tiêu phun molybden

 

Tôi. Ngành công nghiệp bán dẫn


Các mục tiêu molybden được sử dụng trong ngành công nghiệp bán dẫn để chuẩn bị điện cực đáy cho các wafer silic kim loại, cung cấp dòng điện ổn định và đảm bảo chất lượng wafer.

 

 

Tôi. Bảng hiển thị


Vật liệu Molybdenum Target được sử dụng trong màn hình tinh thể lỏng (LCD) để tăng độ sáng, độ tương phản, màu sắc và tuổi thọ.

 

 

Tôi. Ngành công nghiệp quang điện


Mo Sputtering Target được sử dụng trong sản xuất pin mặt trời như vật liệu điện cực, cải thiện hiệu quả chuyển đổi.

 


Tôi. Kính phát xạ thấp


Các mục tiêu molybden được sử dụng trong sản xuất STN/TN/TFT-LCD và thủy tinh phát xạ thấp, phù hợp với các hệ thống sơn khác nhau.