logo
İyi bir fiyat.  çevrimiçi

Ürün ayrıntıları

Created with Pixso. Evde Created with Pixso. Ürünler Created with Pixso.
Metal püskürtme hedefi
Created with Pixso. Molibden Püskürtme Hedefi (Mo Püskürtme Hedefi)
Ayrıntılı Bilgiler
Menşe yeri:
Çin
Sertifika:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
Saflık:
%99,95-%99,999
Yoğunluk:
10.28g/cm
Direnç:
0°C'de 5,17 × 10⁻¹⁰ Ω·cm'dir; 800°C'de 24,6 × 10⁻¹⁰ Ω·cm; ve 2400°C'de 72 × 10⁻¹⁰ Ω·
isim:
Molibden Püskürtme Hedefi (Mo Püskürtme Hedefi)
Oluşturma işlemi:
Sıcak Presleme Sinterleme
Ürün Özellikleri:
Düz hedef, Dönen hedef
Uygulama Alanları:
Yarı İletken Endüstrisi, Gösterge Panelleri, Fotovoltaik Endüstrisi, Düşük emisyonlu Cam
Ambalaj bilgileri:
Vakumla kapatılmış ambalaj, saklama ve taşıma için kutuya paketlenmiştir
Yetenek temini:
istikrarlı tedarik
Vurgulamak:

Molibden Püskürtme Hedefi

,

Mo Püskürtme Hedefi

,

Molibden Hedefi

Ürün Tanımı

Molibden Püskürtme Hedefi, yüksek performanslı malzemelerde yükselen bir yıldız

Malzeme biliminin sürekli ilerlemesiyle birlikte, Molibden püskürtme hedefleri çeşitli alanlarda önemli bir itici güç olarak ortaya çıkmıştır. Molibden hedefleri, yarı iletken, ekran, fotovoltaik ve üst düzey üretim sektörlerinde kritik öneme sahiptir ve endüstriyel yenilikleri destekleyen benzersiz performans avantajları sunar.

Mükemmel ÖzelliklerMolibden Püskürtme Hedefleri

 

l Ultra Yüksek Saflık


Molibden püskürtme hedefleri tipik olarak %99,95'ten yüksek saflığa sahiptir, bazıları 5N'ye (99,999%) ulaşır. Fe ve Ni gibi son derece düşük safsızlık içeriği <50ppm ve O <200ppm, püskürtülmüş filmlerin kararlı elektriksel performansını sağlar ve yarı iletken çip üretimi gibi yüksek hassasiyetli uygulamalar için sağlam bir temel oluşturur.

 

 

l Yüksek Sıcaklık Oksidasyon Direnci


2623°C'lik ultra yüksek erime noktası ile 1000°C'de havada oksidasyondan kaynaklanan ağırlık artışı <0.1mg/cm² (100 saat). Örneğin, TCO filmleri hazırlamak için Mo hedeflerini kullanan bir fotovoltaik şirketi, 85°C/85% RH testinde 500 saat sonra herhangi bir arıza göstermedi ve yüksek sıcaklık ve zorlu ortamlarda üstün bir kararlılık sergiledi.

 

 

l Hassas Yapı ve Mükemmel İletkenlik


Yoğunluk: 10.28 g/cm³ (%99 teorik), tane boyutu <50μm, düzlük ≤0.05mm (Φ100mm hedef). Yüksek saflıkta Mo'nun mükemmel iletkenliği (direnç 5.2 μΩ·cm), püskürtme sırasında verimli akım transferini sağlar ve püskürtme verimliliğini artırır. Hassas yapısal tasarım, kaplama doğruluğunu ve tekdüzeliğini sağlayan yüksek hassasiyetli püskürtme ekipmanlarıyla uyumludur.

 

 UygulamalarMolibden Püskürtme Hedefleri

 

l Yarı İletken Endüstrisi


Molibden hedefleri, metal silikon gofretler için alt elektrotları hazırlamak, kararlı akım sağlamak ve gofret kalitesini garanti etmek için yarı iletken endüstrisinde kullanılır.

 

 

l Ekran Panelleri


Molibden Hedef malzemesi, parlaklığı, kontrastı, rengi ve ömrü artırmak için sıvı kristal ekranlarda (LCD'ler) kullanılır.

 

 

l Fotovoltaik Endüstrisi


Mo Püskürtme Hedefi, dönüşüm verimliliğini artıran elektrot malzemeleri olarak güneş pili üretiminde kullanılır.

 


l Düşük Emisyonlu Cam


Molibden hedefleri, STN/TN/TFT-LCD'ler ve düşük emisyonlu cam üretimi için kullanılır, çeşitli kaplama sistemleri için uygundur.