با پیشرفت مداوم علم مواد، اهداف پاشش مولیبدن به عنوان یک محرک کلیدی در زمینههای مختلف ظهور کردهاند. اهداف مولیبدن در بخشهای نیمههادی، نمایشگر، فتوولتائیک و تولید پیشرفته حیاتی هستند و مزایای عملکردی منحصر به فردی را ارائه میدهند که نوآوری صنعتی را هدایت میکند.
خلوص فوقالعاده بالا
اهداف پاشش مولیبدن معمولاً خلوص بالایی برابر با ≥99.95% دارند و برخی به 5N (99.999%) میرسند. محتوای ناخالصی بسیار کم، مانند Fe و Ni کمتر از 50ppm و O کمتر از 200ppm، عملکرد الکتریکی پایدار فیلمهای پاشیده شده را تضمین میکند و پایهای محکم برای کاربردهای با دقت بالا مانند تولید تراشههای نیمههادی ایجاد میکند.lمقاومت در برابر اکسیداسیون در دمای بالا
l
ساختار دقیق و رسانایی عالیچگالی: 10.28 گرم بر سانتیمتر مکعب (99% تئوری)، اندازه دانه کمتر از 50 میکرومتر، صافی ≤0.05 میلیمتر (هدف Φ100 میلیمتر). رسانایی عالی Mo با خلوص بالا (مقاومت 5.2 میکرو اهم بر سانتیمتر) انتقال جریان کارآمد را در طول پاشش تضمین میکند و کارایی پاشش را بهبود میبخشد. طراحی ساختار دقیق با تجهیزات پاشش با دقت بالا سازگار است و دقت و یکنواختی پوشش را تضمین میکند.
اهداف پاشش مولیبدن
lصنعت نیمههادی
اهداف مولیبدن در صنعت نیمههادی برای آمادهسازی الکترودهای پایینی برای ویفرهای سیلیکونی فلزی استفاده میشوند و جریان پایدار را فراهم کرده و کیفیت ویفر را تضمین میکنند.l
مواد هدف مولیبدن در نمایشگرهای کریستال مایع (LCD) برای افزایش روشنایی، کنتراست، رنگ و طول عمر استفاده میشود.
l
اهداف پاشش Mo در تولید سلولهای خورشیدی به عنوان مواد الکترود استفاده میشوند و راندمان تبدیل را بهبود میبخشند.
l
اهداف مولیبدن در تولید LCDهای STN/TN/TFT و شیشه کمانتشار استفاده میشوند که برای سیستمهای پوشش مختلف مناسب هستند.