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商品の詳細

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金属スパッタリングターゲット
Created with Pixso. モリブデンスパッタリングターゲット(Moスパッタリングターゲット)
詳細情報
起源の場所:
中国
証明:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
純度:
99.95%~99.999%
密度:
10.28g/cm
抵抗率:
0℃では5.17 × 10⁻¹⁰ Ω・cmです。 24.6 × 10⁻¹⁰ Ω・cm（800℃） 72 × 10⁻¹⁰ Ω・cm、2400℃
名前:
モリブデンスパッタリングターゲット(Moスパッタリングターゲット)
形成プロセス:
熱圧 シンタリング
製品仕様:
平面ターゲット、回転ターゲット
応用分野:
半導体産業、ディスプレイパネル、太陽光発電産業、低放射率ガラス
パッケージの詳細:
真空密封包装、保管および輸送用にケース詰め
供給の能力:
安定した供給
ハイライト:

モリブデンスプッターターゲットは

,

Moスパッタリングターゲット

,

モリブデンターゲット

製品の説明

モリブデンスパッタリングターゲット、高性能材料のスター

材料科学の継続的な進歩に伴い、モリブデンスパッタリングターゲットは様々な分野で重要な推進力となっています。モリブデンターゲットは、半導体、ディスプレイ、太陽光発電、ハイエンド製造分野で不可欠であり、産業革新を推進する独自の性能上の利点を提供します。

優れた特性モリブデンスパッタリングターゲット

 

 超高純度


モリブデンスパッタリングターゲットは通常、純度99.95%以上で、一部は5N（99.999%）に達します。FeやNiが<50ppm、Oが<200ppmといった極めて低い不純物含有量は、スパッタ膜の安定した電気的性能を保証し、半導体チップ製造のような高精度アプリケーションの強固な基盤を築きます。l高温耐酸化性

 

 

 l


精密構造と優れた導電性密度: 10.28 g/cm³（理論値の99%）、結晶粒径<50μm、平坦度≤0.05mm（Φ100mmターゲット）。高純度Moの優れた導電性（抵抗率5.2 μΩ·cm）は、スパッタリング中の効率的な電流伝送を保証し、スパッタリング効率を向上させます。精密な構造設計は高精度スパッタリング装置と互換性があり、コーティングの精度と均一性を保証します。

 

 

 モリブデンスパッタリングターゲット


l半導体産業

 

 モリブデンターゲットは半導体産業で金属シリコンウェーハのボトム電極作製に使用され、安定した電流を供給し、ウェーハ品質を保証します。l

 

 モリブデンターゲット材料は液晶ディスプレイ（LCD）に使用され、明るさ、コントラスト、色、寿命を向上させます。


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 Moスパッタリングターゲットは太陽電池製造で電極材料として使用され、変換効率を向上させます。


l

 

 

 モリブデンターゲットは、STN/TN/TFT-LCDおよび低放射ガラスの製造に使用され、様々なコーティングシステムに適しています。