logo
Bom preço  on-line

Detalhes dos produtos

Created with Pixso. Casa Created with Pixso. Produtos Created with Pixso.
Alvo de Pulverização de Metal
Created with Pixso. Alvo de pulverização catódica de molibdênio (Alvo de pulverização catódica Mo)
Informações detalhadas
Lugar de origem:
China
Certificação:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
Pureza:
990,95%-99,999%
Densidade:
10,28g/cm
Resistividade:
É 5,17 × 10⁻¹⁰ Ω·cm a 0℃; 24,6 × 10⁻¹⁰Ω·cm a 800℃; e 72 × 10⁻¹⁰ Ω·cm a 2400℃
nome:
Alvo de pulverização catódica de molibdênio (Alvo de pulverização catódica Mo)
Processo de formação:
Sinterização por prensagem a quente
Especificações do produto:
Alvo plano, alvo giratório
Campos de aplicação:
Indústria de semicondutores, painéis de exibição, indústria fotovoltaica, vidro de baixa emissividad
Detalhes da embalagem:
Embalagem selada a vácuo, embalada em caixa para armazenamento e transporte
Habilidade da fonte:
Fonte estável
Destacar:

Alvo de pulverização de molibdênio

,

Alvo de pulverização catódica Mo

,

Alvo de molibdênio

Descrição do produto

Alvo de pulverização de molibdênio, uma estrela em ascensão em materiais de alto desempenho

Com o contínuo avanço da ciência dos materiais, os alvos de pulverização de molibdênio surgiram como um motor chave em vários campos.energia fotovoltaica, e setores manufatureiros de ponta, proporcionando vantagens de desempenho únicas que impulsionam a inovação industrial.

Excelentes propriedades deMeta de pulverização de molibdênio

 

Eu... Ultra-alta pureza


Os alvos de pulverização de molibdênio têm tipicamente uma pureza elevada de ≥ 99,95%, com alguns atingindo 5N (99,999%).assegura o desempenho elétrico estável das películas pulverizadas, estabelecendo uma base sólida para aplicações de alta precisão, como a fabricação de chips de semicondutores.

 

 

Eu... Resistência à oxidação a altas temperaturas


Com um ponto de fusão ultra-alto de 2623°C, o ganho de peso da oxidação no ar a 1000°C é < 0,1 mg/cm2 (100 horas).Uma empresa fotovoltaica que utilizava alvos de Mo para preparar filmes de COT não apresentou falha após 500 horas de ensaio a 85 °C/85% RH, demonstrando uma excelente estabilidade em ambientes de altas temperaturas e adversos.

 

 

Eu... Estrutura precisa e excelente condutividade


Densidade: 10,28 g/cm3 (99% teórica), tamanho do grão < 50μm, planície ≤ 0,05 mm (alvo Φ100mm).2 μΩ·cm) assegura uma transferência de corrente eficiente durante a pulverizaçãoO projeto estrutural preciso é compatível com equipamentos de pulverização de alta precisão, garantindo a precisão e uniformidade do revestimento.

 

 Aplicações deAlvos de pulverização de molibdênio

 

Eu... Indústria de semicondutores


Os alvos de molibdênio são utilizados na indústria de semicondutores para preparar eletrodos de fundo para wafers de silício metálico, fornecendo corrente estável e garantindo a qualidade da wafer.

 

 

Eu... Painéis de exibição


O material Molybdenum Target é usado em telas de cristal líquido (LCDs) para melhorar o brilho, o contraste, a cor e a vida útil.

 

 

Eu... Indústria fotovoltaica


Os Mo Sputtering Target são usados na fabricação de células solares como materiais de eletrodos, melhorando a eficiência de conversão.

 


Eu... Vidro de baixa emissividade


Os alvos de molibdênio são utilizados na produção de STN/TN/TFT-LCD e vidro de baixa emissividade, adequados para vários sistemas de revestimento.