logo
Giá tốt.  trực tuyến

Chi tiết sản phẩm

Created with Pixso. Nhà Created with Pixso. Các sản phẩm Created with Pixso.
phún xạ vật liệu mục tiêu
Created with Pixso. Mục tiêu phun silicon (Si Sputtering Target)
Thông tin chi tiết
Nguồn gốc:
Trung Quốc
Chứng nhận:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
độ tinh khiết:
Độ tinh khiết của silicon tinh thể là 99,999% và độ tinh khiết của Hsi là 99,99%
Tỉ trọng:
2,33 g/cm³
Tên:
Mục tiêu phún xạ silicon (Mục tiêu phún xạ Si)
Quá trình hình thành:
Phun, thiêu kết, tăng trưởng tinh thể
Thông số sản phẩm:
Mục tiêu phẳng, mục tiêu xoay
Trường ứng dụng:
Sản xuất thiết bị quang học, Sản xuất chất bán dẫn, Sản xuất cảm biến
chi tiết đóng gói:
Đóng gói hút chân không, đóng thùng để bảo quản và vận chuyển
Khả năng cung cấp:
nguồn cung ổn định
Làm nổi bật:

Mục tiêu phún xạ silicon

,

Mục tiêu phún xạ Si

,

Mục đích Silicon Si

Mô tả sản phẩm

Vật liệu mục tiêu phun silicon tinh khiết cao: Vật liệu cốt lõi để lắng đọng phim mỏng

Vật liệu mục tiêu được sử dụng trong các quy trình lắng đọng hơi vật lý (PVD), chủ yếu để lắng đọng các lớp trung bình như silic oxit, silic nitride và silic hydride.Nó có thể được chia thành các loại silic tinh thể và HSi. Các mục tiêu phun silicon thường màu xám đậm với ngoại hình bán kim loại và mật độ khoảng 2,33 g / cm3. Điểm nóng chảy của silicon là 1414 ° C, và điểm sôi của nó là 3265 ° C.Silicon có hệ số dẫn nhiệt cao (149 W·m−1·K−1) và dẫn nhiệt tuyệt vờiNgoài ra, vật liệu mục tiêu silicon có độ cứng tốt, tính chất quang học, khả năng chống mòn và khả năng chống ăn mòn tuyệt vời.

Tính chất tuyệt vời của vật liệu mục tiêu phun silicon:

 

Tôi. Độ tinh khiết cao đảm bảo hiệu suất phim mỏng ổn định


Silicon tinh thể có độ tinh khiết là 99,999%, trong khi độ tinh khiết HSi là 99,99%

 

 

Tôi. Sự đồng nhất và mật độ phim mỏng tuyệt vời


Silicon Sputtering Targets có hiệu quả bột bột cao và tương thích với các thiết bị lớp phủ chân không khác nhau trong quy trình PVD.Các nguyên tử silic có độ dính tốt với các chất nền thông thường (như thủy tinh), kim loại, phiến silicon), tạo thành các tấm ổn định, không lột mà đáp ứng các yêu cầu độ tin cậy cao.

 

 

Tôi. Tốc độ phun và bám sát tốt


Tính dẫn nhiệt tốt của silicon giúp phân tán nhiệt từ bề mặt mục tiêu nhanh chóng, ngăn ngừa quá nóng tại chỗ.hỗ trợ trong việc lắng đọng phim hiệu quả.

 

 Ứng dụng rộng của vật liệu mục tiêu phun silicon

 

Tôi. Sản xuất thiết bị quang học


Độ tinh khiết cao: Các mục tiêu phun silicon đảm bảo độ rõ ràng, ổn định và chính xác của các thiết bị quang học, nâng cao hiệu suất và độ tin cậy của chúng.Trong truyền thông sợi quangmạch quang tích hợp, phim silicon dioxide được sử dụng làm vật liệu dẫn sóng để truyền và xử lý tín hiệu quang học.

 

 

Tôi. Sản xuất bán dẫn

 

Được sử dụng để chuẩn bị chất nền và vật liệu đóng gói cho đèn LED, giúp cải thiện hiệu quả ánh sáng và sự ổn định của đèn LED.

 

 

Tôi. Sản xuất cảm biến

 

Được sử dụng trong sản xuất các yếu tố cảm biến và mạch xử lý tín hiệu, tăng độ nhạy và độ chính xác của cảm biến

 

 

Yêu cầu giá cả mục tiêu Silicon Sputtering

Vui lòng xác định chất lượng vật liệu, độ tinh khiết yêu cầu, kích thước mục tiêu, số lượng và yêu cầu gắn kết khiliên hệ với APGKhám phámục tiêu phunđối với các vật liệu liên quan.