Silicon Sputtering Target (Si Sputtering Target)

Doelmateriaal voor hoogzuiverheids siliciumsputtering: kernmateriaal voor dunnefilmdepositatie

Silicon Sputtering Doelmateriaal wordt gebruikt in fysieke dampafzettingsprocessen (PVD), voornamelijk voor het afzetten van middelgrote lagen zoals siliciumoxide, siliciumnitride en siliciumhydride.Het kan worden onderverdeeld in kristallijne silicium en HSi-typen.. Silicon Sputtering Targets zijn meestal donkergrijz met een halfmetalen uiterlijk en een dichtheid van ongeveer 2,33 g/cm3. Het smeltpunt van silicium is 1414°C en het kookpunt is 3265°C.Silicium heeft een hoge thermische geleidbaarheid coëfficiënt (149 W·m−1·K−1) en uitstekende thermische geleidbaarheidBovendien heeft het siliciumdoelmateriaal een goede hardheid, optische eigenschappen, slijtvastheid en uitstekende corrosiebestendigheid.

Uitstekende eigenschappen van het doelmateriaal voor siliciumsputtering:

Ik... Hoge zuiverheid zorgt voor een stabiele dunne filmprestatie

Kristallijn silicium heeft een zuiverheid van 99,999%, terwijl HSi-zuiverheid 99,99% is

Ik... Uitstekende dunne film gelijkheid en dichtheid

Silicon Sputtering Targets hebben een hoge sputtering efficiëntie en zijn compatibel met verschillende vacuüm coating apparatuur in PVD proces.Siliciumatomen hebben een goede hechting aan gemeenschappelijke substraten (zoals glas), metaal, siliciumwafers), die stabiele, niet-peelende films vormen die voldoen aan hoge betrouwbaarheidseisen.

Ik... Goed sputterend vermogen en hechting

De goede thermische geleidbaarheid van silicium helpt warmte van het doeloppervlak snel af te breken, waardoor lokale oververhitting wordt voorkomen.hulp bij efficiënte filmdepositie.

 Brede toepassingen van het doelmateriaal voor siliciumsputtering

Ik... Vervaardiging van optische apparaten

Hoge zuiverheid: Silicon Sputtering Targets zorgen voor de helderheid, stabiliteit en nauwkeurigheid van optische apparaten, waardoor hun prestaties en betrouwbaarheid worden verbeterd.In glasvezelcommunicatie engeïntegreerde optische schakelingen, siliciumdioxidefilms worden gebruikt als golfgeleidermateriaal om optische signalen te verzenden en te verwerken.

Ik... Vervaardiging van halfgeleiders

Gebruikt voor het bereiden van ondergronden en verpakkingsmaterialen voor LED's, waardoor het lichtvermogen en de stabiliteit van LED's worden verbeterd.

Ik... Productie van sensoren

Gebruikt bij de productie van sensorelementen en signaalverwerkingscircuits, waardoor de gevoeligheid en nauwkeurigheid van sensoren worden verbeterd

Vraag een Silicon Sputtering Target Quote

Gelieve de materiaalkwaliteit, de vereiste zuiverheid, de beoogde afmetingen, de hoeveelheid en de bindvereisten te specificeren wanneercontact opnemen met APGVerken onzespuitdoelenvoor aanverwante materialen.