Cible de pulvérisation au silicium (cible de pulvérisation au Si)

Matériau de cible de pulvérisation de silicium de haute pureté : matériau de base pour le dépôt de couches minces

Le matériau de cible de pulvérisation de silicium est utilisé dans les processus de dépôt physique en phase vapeur (PVD), principalement pour le dépôt de couches moyennes telles que l'oxyde de silicium, le nitrure de silicium et l'hydrure de silicium. Il peut être divisé en silicium cristallin et en types HSi. Les cibles de pulvérisation de silicium sont généralement gris foncé avec une apparence semi-métallique et une densité d'environ 2,33 g/cm³. Le point de fusion du silicium est de 1414°C et son point d'ébullition est de 3265°C. Le silicium a un coefficient de conductivité thermique élevé (149 W·m⁻¹·K⁻¹) et une excellente conductivité thermique. De plus, le matériau cible de silicium a une bonne dureté, de bonnes propriétés optiques, une bonne résistance à l'usure et une excellente résistance à la corrosion.

Excellentes propriétés du matériau de cible de pulvérisation de silicium :

Fabrication de capteurs Haute pureté assurant des performances stables des couches minces

Le silicium cristallin a une pureté de 99,999 %, tandis que la pureté HSi est de 99,99 %

Fabrication de capteurs Excellente uniformité et densité des couches minces

Les cibles de pulvérisation de silicium ont une efficacité de pulvérisation élevée et sont compatibles avec divers équipements de revêtement sous vide dans le processus PVD. Dans le même temps, les atomes de silicium ont une bonne adhérence aux substrats courants (tels que le verre, le métal, les plaquettes de silicium), formant des films stables et non décollables qui répondent à des exigences de haute fiabilité.

Fabrication de capteurs Bon taux de pulvérisation et bonne adhérence

La bonne conductivité thermique du silicium aide à dissiper rapidement la chaleur de la surface de la cible, empêchant la surchauffe locale. De plus, sa conductivité est essentielle pour la pulvérisation magnétron, aidant à un dépôt de film efficace.

 Applications étendues du matériau de cible de pulvérisation de silicium

Fabrication de capteurs Fabrication de dispositifs optiques

Haute pureté : les cibles de pulvérisation de silicium garantissent la clarté, la stabilité et la précision des dispositifs optiques, améliorant leurs performances et leur fiabilité. Couches antireflets et protectrices : dans les communications par fibre optique et les circuits optiques intégrés, les films d'oxyde de silicium sont utilisés comme matériaux de guide d'ondes pour transmettre et traiter les signaux optiques.l

Fabrication de capteurs Utilisé pour préparer des substrats et des matériaux d'encapsulation pour les LED, améliorant l'efficacité lumineuse et la stabilité des LED.

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Fabrication de capteurs Utilisé dans la production d'éléments de capteurs et de circuits de traitement de signaux, améliorant la sensibilité et la précision des capteurs

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