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Einzelheiten zu den Produkten

Created with Pixso. Haus Created with Pixso. Produkte Created with Pixso.
Sputtertargetmaterial
Created with Pixso. Silikon-Spruttering-Ziel (Si-Spruttering-Ziel)
Ausführliche Information
Herkunftsort:
China
Zertifizierung:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
Reinheit:
Die Reinheit von kristallinem Silizium beträgt 99,999 %, die von Hsi 99,99 %.
Dichte:
2,33 g/cm³
Name:
Silizium-Sputtertarget (Si-Sputtertarget)
Bildungsprozess:
Sprühen, Sintern, Kristallwachstum
Produktspezifikationen:
Flaches Ziel, rotierendes Ziel
Anwendungsfelder:
Herstellung optischer Geräte, Halbleiterherstellung, Sensorherstellung
Verpackung Informationen:
Vakuumversiegelte Verpackung, kartonverpackt für Lagerung und Transport
Versorgungsmaterial-Fähigkeit:
Stabile Versorgung
Hervorheben:

Silizium-Sputtertarget

,

Si-Sputtertarget

,

Ziel für Silizium-Si

Produkt-Beschreibung

Zielmaterial für hochreines Silizium-Sputtern: Kernmaterial für die Dünnschichtdeposition

Das Zielmaterial wird in physikalischen Dampfdeponierungsprozessen (PVD) verwendet, hauptsächlich zur Ablagerung von mittleren Schichten wie Siliziumoxid, Siliziumnitrid und Siliziumhydrid.Es kann in kristallines Silizium und HSi-Typen unterteilt werden. Silizium-Sputtering-Ziele sind typischerweise dunkelgrau mit einem halbmetallischen Aussehen und einer Dichte von etwa 2,33 g/cm3. Der Schmelzpunkt von Silizium ist 1414 °C und sein Siedepunkt 3265 °C.Silizium weist einen hohen Wärmeleitkoeffizienten (149 W·m−1·K−1) und eine ausgezeichnete Wärmeleitfähigkeit aufDarüber hinaus weist das Zielmaterial aus Silizium eine gute Härte, optische Eigenschaften, Verschleißbeständigkeit und hervorragende Korrosionsbeständigkeit auf.

Ausgezeichnete Eigenschaften des Zielmaterials für Siliziumspritzen:

 

Ich... Hohe Reinheit sorgt für eine stabile Dünnschicht


Kristallines Silizium hat eine Reinheit von 99,999%, während HSi-Reinheit 99,99% ist

 

 

Ich... Ausgezeichnete Dünnschichtgleichheit und -dichte


Silicon Sputtering Targets haben eine hohe Sputtereffizienz und sind mit verschiedenen Vakuumbeschichtungsanlagen im PVD-Prozess kompatibel.Siliziumatome haben eine gute Haftung an gängigen Substraten (wie Glas), Metall, Siliziumwafer), die stabile, nicht schälende Folien bilden, die hohen Zuverlässigkeitsanforderungen entsprechen.

 

 

Ich... Gute Sputterrate und Haftung


Die gute Wärmeleitfähigkeit von Silizium hilft, die Wärme von der Zieloberfläche schnell abzuleiten und lokale Überhitzung zu verhindern.Hilfe bei der effizienten Filmdeposition.

 

 Weite Anwendungsbereiche von Zielmaterial für Siliziumspritzen

 

Ich... Herstellung optischer Geräte


Hohe Reinheit: Silikonspritzerziele sorgen für die Klarheit, Stabilität und Genauigkeit optischer Geräte und verbessern ihre Leistung und Zuverlässigkeit.Im Bereich der Glasfaserkommunikation undintegrierte optische Schaltungen, Siliziumdioxidfolien werden als Wellenleitmaterialien zur Übertragung und Verarbeitung optischer Signale verwendet.

 

 

Ich... Herstellung von Halbleitern

 

Verwendet zur Vorbereitung von Substraten und Verpackungsmaterialien für LEDs, wodurch die Lichtwirksamkeit und Stabilität von LEDs verbessert werden.

 

 

Ich... Herstellung von Sensoren

 

Bei der Herstellung von Sensorelementen und Signalverarbeitungsschaltungen verwendet, um die Empfindlichkeit und Genauigkeit von Sensoren zu erhöhen

 

 

Anfordern Sie ein Angebot für das Ziel der Silikon-Sputterung

Bitte geben Sie die Materialqualität, die erforderliche Reinheit, die Zieldimensionen, die Menge und die Anforderungen an die Verklebung an, wennKontaktaufnahme mit der APGErforschen Sie unsereSputterzielefür verwandte Materialien.