logo
Καλή τιμή  online

λεπτομέρειες για τα προϊόντα

Created with Pixso. Σπίτι Created with Pixso. Προϊόντα Created with Pixso.
εκτόξευση υλικού στόχου
Created with Pixso. Στόχος υλικού υψηλής καθαρότητας Si Στόχος για την κατασκευή ημιαγωγών
Πληροφορίες λεπτομέρειας
Τόπος καταγωγής:
Κίνα
Πιστοποίηση:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
Καθαρότητα:
Η καθαρότητα του κρυσταλλικού πυριτίου είναι 99,999%, και η καθαρότητα του Hsi είναι 99,99%
Πυκνότητα:
2,33 g/cm³
Ονομα:
Στόχος Sputtering Silicon (Si Sputtering Target)
Διαδικασία σχηματισμού:
Ψεκασμός, πυροσυσσωμάτωση, ανάπτυξη κρυστάλλων
Προδιαγραφές προϊόντος:
Επίπεδος στόχος, Περιστρεφόμενος στόχος
Πεδία Εφαρμογής:
Κατασκευή οπτικών συσκευών, Κατασκευή ημιαγωγών, Κατασκευή αισθητήρων
Συσκευασία λεπτομέρειες:
Συσκευασία σφραγισμένη σε κενό, συσκευασμένη σε θήκη για αποθήκευση και μεταφορά
Δυνατότητα προσφοράς:
Σταθερός ανεφοδιασμός
Επισημαίνω:

Στόχος Στρίβωσης Σίλη Στόχος Στρίβωσης Σίλη Στόχος

,

Si Sputtering Target

,

Silicon Si Target

Περιγραφή προϊόντων

Υλικό Στόχου Εξάχνωσης Πυριτίου Υψηλής Καθαρότητας: Βασικό Υλικό για Εναπόθεση Λεπτών Υμενίων

Το υλικό στόχου εξάχνωσης πυριτίου χρησιμοποιείται σε διαδικασίες φυσικής εναπόθεσης ατμών (PVD), κυρίως για την εναπόθεση μεσαίων στρωμάτων όπως οξείδιο πυριτίου, νιτρίδιο πυριτίου και υδρίδιο πυριτίου. Μπορεί να χωριστεί σε κρυσταλλικό πυρίτιο και τύπους HSi. Οι στόχοι εξάχνωσης πυριτίου είναι συνήθως σκούρου γκρι με ημι-μεταλλική εμφάνιση και πυκνότητα περίπου 2,33 g/cm³. Το σημείο τήξης του πυριτίου είναι 1414°C και το σημείο βρασμού του είναι 3265°C. Το πυρίτιο έχει υψηλό συντελεστή θερμικής αγωγιμότητας (149 W·m⁻¹·K⁻¹) και εξαιρετική θερμική αγωγιμότητα. Επιπλέον, το υλικό στόχου πυριτίου έχει καλή σκληρότητα, οπτικές ιδιότητες, αντοχή στη φθορά και εξαιρετική αντοχή στη διάβρωση.

Εξαιρετικές Ιδιότητες Υλικού Στόχου Εξάχνωσης Πυριτίου:

 

l Υψηλή Καθαρότητα Εξασφαλίζει Σταθερή Απόδοση Λεπτών Υμενίων


Το κρυσταλλικό πυρίτιο έχει καθαρότητα 99,999%, ενώ η καθαρότητα HSi είναι 99,99%

 

 

l Εξαιρετική Ομοιομορφία και Πυκνότητα Λεπτών Υμενίων


Οι στόχοι εξάχνωσης πυριτίου έχουν υψηλή απόδοση εξάχνωσης και είναι συμβατοί με διάφορο εξοπλισμό κενού επίστρωσης στη διαδικασία PVD. Ταυτόχρονα, τα άτομα πυριτίου έχουν καλή πρόσφυση σε κοινά υποστρώματα (όπως γυαλί, μέταλλο, γκοφρέτες πυριτίου), σχηματίζοντας σταθερά, μη ξεφλουδίζοντα υμένια που πληρούν απαιτήσεις υψηλής αξιοπιστίας.

 

 

l Καλός Ρυθμός Εξάχνωσης και Πρόσφυση


Η καλή θερμική αγωγιμότητα του πυριτίου βοηθά στη γρήγορη διάχυση της θερμότητας από την επιφάνεια του στόχου, αποτρέποντας την τοπική υπερθέρμανση. Επίσης, η αγωγιμότητά του είναι απαραίτητη για την εξάχνωση μαγνητρονίου, βοηθώντας στην αποτελεσματική εναπόθεση υμενίων.

 

 Ευρείες Εφαρμογές Υλικού Στόχου Εξάχνωσης Πυριτίου

 

l Κατασκευή Οπτικών Συσκευών


Υψηλή Καθαρότητα: Οι στόχοι εξάχνωσης πυριτίου εξασφαλίζουν τη διαύγεια, τη σταθερότητα και την ακρίβεια των οπτικών συσκευών, βελτιώνοντας την απόδοση και την αξιοπιστία τους. Αντι-ανακλαστικά και προστατευτικά στρώματα: Στις οπτικές ίνες επικοινωνιών και στα ολοκληρωμένα οπτικά κυκλώματα, τα υμένια οξειδίου του πυριτίου χρησιμοποιούνται ως υλικά κυματοδηγών για τη μετάδοση και επεξεργασία οπτικών σημάτων.

 

 

l Κατασκευή Ημιαγωγών

 

Χρησιμοποιείται για την προετοιμασία υποστρωμάτων και υλικών συσκευασίας για LED, παρέχοντας βελτίωση στην φωτεινή απόδοση και σταθερότητα των LED.

 

 

l Κατασκευή Αισθητήρων

 

Χρησιμοποιείται στην παραγωγή στοιχείων αισθητήρων και κυκλωμάτων επεξεργασίας σήματος, βελτιώνοντας την ευαισθησία και την ακρίβεια των αισθητήρων

 

 

Ζητήστε Προσφορά για Στόχο Εξάχνωσης Πυριτίου

Παρακαλούμε καθορίστε την ποιότητα του υλικού, την απαιτούμενη καθαρότητα, τις διαστάσεις του στόχου, την ποσότητα και τις απαιτήσεις συγκόλλησης κατά την επικοινωνία με την APG. Εξερευνήστε τους στόχους εξάχνωσης μας για σχετικά υλικά.