실리콘 스프터링 타겟 (Si 스프터링 타겟)

고 순수성 실리콘 스프터링 대상 재료: 얇은 필름 퇴비를 위한 핵심 재료

실리콘 스프터링 대상 물질은 물리적 증기 퇴적 (PVD) 과정에 주로 실리콘 산화물, 실리콘 질소 및 실리콘 하이드와 같은 중층 층을 퇴적하는 데 사용됩니다.그것은 결정적 실리콘과 HSi 유형으로 나눌 수 있습니다.실리콘 스프터링 타겟은 일반적으로 반금속 모양과 밀도가 약 2.33g/cm3의 어두운 회색이다. 실리콘의 녹는점은 1414°C이며 끓는점은 3265°C이다.실리콘은 높은 열전도 계수 (149 W·m−1·K−1) 와 우수한 열전도또한, 실리콘 대상 물질은 좋은 경화, 광학적 특성, 마모 저항, 그리고 우수한 부식 저항을 가지고 있습니다.

실리콘 스프터링 대상 재료의 우수한 특성:

난 높은 순수성 은 안정적 인 얇은 필름 성능을 보장 합니다

결정적 실리콘은 순수 99.999%, HSi 순수 99.99%

난 우수한 얇은 필름 균일성 및 밀도

실리콘 스프터링 타겟은 높은 스프터링 효율을 가지고 있으며 PVD 프로세스에서 다양한 진공 코팅 장비와 호환됩니다.실리콘 원자는 일반적인 기판 (글라스 등) 에 잘 붙어 있습니다., 금속, 실리콘 웨이퍼), 높은 신뢰성 요구 사항을 충족하는 안정적이고 벗기지 않는 필름을 형성합니다.

난 좋은 스프터링 속도 및 접착력

실리콘의 좋은 열전도성 은 목표 표면 에서 열 을 빠르게 분산 시키고, 지역 과열 을 방지 합니다. 또한, 그 전도성 은 매그네트론 스프터링 에 필수적입니다.효율적인 필름 퇴적에 도움이 됩니다..

 실리콘 스프터링 대상 재료의 광범위한 응용

난 광학 기기 제조

높은 순도: 실리콘 스프터링 타겟은 광 장치의 명확성, 안정성 및 정확성을 보장하여 성능과 신뢰성을 향상시킵니다. 반사 및 보호 층:광섬유 통신과통합 광 회로, 실리콘 이산화 필름은 광 신호를 전송하고 처리하는 파도 안내 재료로 사용됩니다.

난 반도체 제조

LED를 위한 기판과 포장 재료를 준비하는데 사용되며, LED의 빛 효율과 안정성을 향상시킵니다.

난 센서 제조

센서 요소 및 신호 처리 회로 생산에 사용되며 센서의 민감도와 정확도를 향상시킵니다.

실리콘 스프터링 목표 요금을 요청

소재의 품질, 요구된 순수성, 목표 크기, 양 및 접착 요구 사항을 지정하십시오.APG에 연락합니다우리의스프터링 목표물관련 재료에 대한 경우