Alvo de Sputtering de Silício (Alvo de Sputtering de Si)  

Material de Alvo de Pulverização de Silício de Alta Pureza: Material Central para Deposição de Filmes Finos

O material de alvo de pulverização de silício é usado em processos de deposição física de vapor (PVD), principalmente para depositar camadas médias como óxido de silício, nitreto de silício e hidreto de silício. Pode ser dividido em silício cristalino e tipos HSi. Os alvos de pulverização de silício são tipicamente cinza escuro com uma aparência semimetálica e uma densidade de cerca de 2,33 g/cm³. O ponto de fusão do silício é 1414°C e seu ponto de ebulição é 3265°C. O silício tem um alto coeficiente de condutividade térmica (149 W·m⁻¹·K⁻¹) e excelente condutividade térmica. Além disso, o material de alvo de silício tem boa dureza, propriedades ópticas, resistência ao desgaste e excelente resistência à corrosão.

Excelentes Propriedades do Material de Alvo de Pulverização de Silício:

l Alta Pureza Garante Desempenho Estável do Filme Fino

O silício cristalino tem uma pureza de 99,999%, enquanto a pureza HSi é 99,99%

l Excelente Uniformidade e Densidade do Filme Fino

Os alvos de pulverização de silício têm alta eficiência de pulverização e são compatíveis com vários equipamentos de revestimento a vácuo no processo PVD. Ao mesmo tempo, os átomos de silício têm boa adesão a substratos comuns (como vidro, metal, wafers de silício), formando filmes estáveis e que não descascam, que atendem a requisitos de alta confiabilidade.

l Boa Taxa de Pulverização e Adesão

A boa condutividade térmica do silício ajuda a dissipar o calor da superfície do alvo rapidamente, evitando superaquecimento local. Além disso, sua condutividade é essencial para a pulverização magnétron, auxiliando na deposição eficiente de filmes.

 Amplas Aplicações do Material de Alvo de Pulverização de Silício

l Fabricação de Dispositivos Ópticos

Alta Pureza: Alvos de Pulverização de Silício garantem a clareza, estabilidade e precisão de dispositivos ópticos, aprimorando seu desempenho e confiabilidade. Camadas antirreflexo e protetoras: Em comunicações de fibra óptica e circuitos ópticos integrados, filmes de dióxido de silício são usados como materiais de guia de onda para transmitir e processar sinais ópticos.

l Fabricação de Semicondutores

Usado para preparar substratos e materiais de embalagem para LEDs, proporcionando melhoria na eficiência luminosa e estabilidade dos LEDs.

l Fabricação de Sensores

Usado na produção de elementos sensores e circuitos de processamento de sinal, aprimorando a sensibilidade e precisão dos sensores

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Por favor, especifique o grau do material, a pureza necessária, as dimensões do alvo, a quantidade e os requisitos de ligação ao entrar em contato com a APG. Explore nossos alvos de pulverização para materiais relacionados.