Detalles de los productos
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Objetivo de pulverización de silicio (objetivo de pulverización de Si)
| Nombre De La Marca: | APG |
| El Tiempo De Entrega: | 4-5 semanas |
| Condiciones De Pago: | T/T |
Objetivo de pulverización de silicio
,Objetivo de farfulla Si
,Objetivo de silicio Si
Material de alta pureza para pulverización catódica de silicio: material central para la deposición de películas delgadas
El material de pulverización catódica de silicio se utiliza en procesos de deposición física de vapor (PVD), principalmente para depositar capas intermedias como óxido de silicio, nitruro de silicio e hidruro de silicio. Se puede dividir en silicio cristalino y tipos HSi. Los objetivos de pulverización catódica de silicio son típicamente de color gris oscuro con una apariencia semimetálica y una densidad de aproximadamente 2.33 g/cm³. El punto de fusión del silicio es 1414°C y su punto de ebullición es 3265°C. El silicio tiene un alto coeficiente de conductividad térmica (149 W·m¹·K¹) y una excelente conductividad térmica. Además, el material objetivo de silicio tiene buena dureza, propiedades ópticas, resistencia al desgaste y excelente resistencia a la corrosión.
Excelentes propiedades del material de pulverización catódica de silicio:
l Alta pureza garantiza un rendimiento estable de la película delgada
El silicio cristalino tiene una pureza del 99.999%, mientras que la pureza HSi es del 99.99%
l Excelente uniformidad y densidad de la película delgada
Los objetivos de pulverización catódica de silicio tienen una alta eficiencia de pulverización y son compatibles con varios equipos de recubrimiento de vacío en el proceso PVD. Al mismo tiempo, los átomos de silicio tienen buena adhesión a sustratos comunes (como vidrio, metal, obleas de silicio), formando películas estables y que no se pelan que cumplen con requisitos de alta fiabilidad.
l Buena tasa de pulverización y adhesión
La buena conductividad térmica del silicio ayuda a disipar rápidamente el calor de la superficie del objetivo, evitando el sobrecalentamiento local. Además, su conductividad es esencial para la pulverización catódica magnétron, lo que ayuda a una deposición eficiente de películas.
Amplias aplicaciones del material de pulverización catódica de silicio
l Fabricación de dispositivos ópticos
Alta pureza: los objetivos de pulverización catódica de silicio garantizan la claridad, estabilidad y precisión de los dispositivos ópticos, mejorando su rendimiento y fiabilidad. Capas antirreflectantes y protectoras: en comunicaciones de fibra óptica ycircuitos ópticos integrados, las películas de dióxido de silicio se utilizan como materiales de guía de ondas para transmitir y procesar señales ópticas.
l Fabricación de semiconductores
Se utiliza para preparar sustratos y materiales de encapsulación para LED, proporcionando una mejora en la eficiencia luminosa y la estabilidad de los LED.
l Fabricación de sensores
Se utiliza en la producción de elementos sensores y circuitos de procesamiento de señales, mejorando la sensibilidad y precisión de los sensores
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