Matériau cible de pulvérisation à haute pureté Cible Si pour la fabrication de semi-conducteurs  

Matériau cible en silicium de haute pureté : matériau de base pour le dépôt de couches minces

Le matériau cible en silicium est utilisé dans les procédés de dépôt physique en phase vapeur (PVD), principalement pour le dépôt de couches intermédiaires telles que l'oxyde de silicium, le nitrure de silicium et l'hydrure de silicium. Il peut être divisé en types silicium cristallin et HSi. Les cibles en silicium sont généralement gris foncé avec une apparence semi-métallique et une densité d'environ 2,33 g/cm³. Le point de fusion du silicium est de 1414°C et son point d'ébullition est de 3265°C. Le silicium a un coefficient de conductivité thermique élevé (149 W·m⁻¹·K⁻¹) et une excellente conductivité thermique. De plus, le matériau cible en silicium présente une bonne dureté, de bonnes propriétés optiques, une bonne résistance à l'usure et une excellente résistance à la corrosion.

Excellentes propriétés du matériau cible en silicium :

Fabrication de capteurs Haute pureté assurant des performances stables des couches minces

Le silicium cristallin a une pureté de 99,999 %, tandis que la pureté HSi est de 99,99 %

Fabrication de capteurs Excellente uniformité et densité des couches minces

Les cibles en silicium ont une efficacité de pulvérisation élevée et sont compatibles avec divers équipements de revêtement sous vide dans le processus PVD. Parallèlement, les atomes de silicium ont une bonne adhérence aux substrats courants (tels que le verre, le métal, les plaquettes de silicium), formant des films stables et non pelables qui répondent à des exigences de haute fiabilité.

Fabrication de capteurs Bon taux de pulvérisation et bonne adhérence

La bonne conductivité thermique du silicium aide à dissiper rapidement la chaleur de la surface de la cible, évitant ainsi la surchauffe locale. De plus, sa conductivité est essentielle pour la pulvérisation magnétron, contribuant à un dépôt de film efficace.

 Applications étendues du matériau cible en silicium

Fabrication de capteurs Fabrication de dispositifs optiques

Haute pureté : les cibles en silicium garantissent la clarté, la stabilité et la précision des dispositifs optiques, améliorant leurs performances et leur fiabilité. Couches antireflets et protectrices : dans les communications par fibre optique et les circuits optiques intégrés, les films d'oxyde de silicium sont utilisés comme matériaux de guide d'ondes pour transmettre et traiter les signaux optiques.l

Fabrication de capteurs Utilisé pour préparer des substrats et des matériaux d'encapsulation pour les LED, améliorant l'efficacité lumineuse et la stabilité des LED.

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Fabrication de capteurs Utilisé dans la production d'éléments de capteurs et de circuits de traitement de signaux, améliorant la sensibilité et la précision des capteurs