Materiale per bersaglio di sputtering ad alta purezza Si Target per la produzione di semiconduttori  

Materiale di bersaglio in silicio ad alta purezza: materiale di base per la deposizione di film sottili

Il materiale bersaglio in silicio viene utilizzato nei processi di deposizione fisica da vapore (PVD), principalmente per la deposizione di strati intermedi come ossido di silicio, nitruro di silicio e idruro di silicio. Può essere suddiviso in tipi di silicio cristallino e HSi. I bersagli di silicio sono tipicamente grigio scuro con un aspetto semimetallico e una densità di circa 2,33 g/cm³. Il punto di fusione del silicio è 1414°C e il suo punto di ebollizione è 3265°C. Il silicio ha un elevato coefficiente di conducibilità termica (149 W·m⁻¹·K⁻¹) ed eccellente conducibilità termica. Inoltre, il materiale bersaglio in silicio ha una buona durezza, proprietà ottiche, resistenza all'usura ed eccellente resistenza alla corrosione.

Eccellenti proprietà del materiale bersaglio in silicio:

Produzione di sensori Alta purezza garantisce prestazioni stabili del film sottile

Il silicio cristallino ha una purezza del 99,999%, mentre la purezza HSi è del 99,99%

Produzione di sensori Eccellente uniformità e densità del film sottile

I bersagli di silicio hanno un'elevata efficienza di sputtering e sono compatibili con varie apparecchiature di rivestimento sottovuoto nel processo PVD. Allo stesso tempo, gli atomi di silicio hanno una buona adesione ai substrati comuni (come vetro, metallo, wafer di silicio), formando film stabili e non sfogliabili che soddisfano elevati requisiti di affidabilità.

Produzione di sensori Buona velocità di sputtering e adesione

La buona conducibilità termica del silicio aiuta a dissipare rapidamente il calore dalla superficie del bersaglio, prevenendo il surriscaldamento locale. Inoltre, la sua conducibilità è essenziale per lo sputtering magnetronico, aiutando un'efficiente deposizione del film.

 Ampie applicazioni del materiale bersaglio in silicio

Produzione di sensori Produzione di dispositivi ottici

Alta purezza: i bersagli di silicio garantiscono la chiarezza, la stabilità e l'accuratezza dei dispositivi ottici, migliorandone le prestazioni e l'affidabilità. Strati antiriflesso e protettivi: nelle comunicazioni in fibra ottica e nei circuiti ottici integrati, i film di biossido di silicio sono utilizzati come materiali per guide d'onda per trasmettere ed elaborare segnali ottici.l

Produzione di sensori Utilizzato per preparare substrati e materiali di imballaggio per LED, migliorando l'efficienza luminosa e la stabilità dei LED.

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Produzione di sensori Utilizzato nella produzione di elementi sensore e circuiti di elaborazione del segnale, migliorando la sensibilità e l'accuratezza dei sensori