logo
Giá tốt.  trực tuyến

Chi tiết sản phẩm

Created with Pixso. Nhà Created with Pixso. các sản phẩm Created with Pixso.
phún xạ vật liệu mục tiêu
Created with Pixso. Vật liệu mạ đích độ tinh khiết cao Si Target cho sản xuất bán dẫn  
Thông tin chi tiết
Nguồn gốc:
Trung Quốc
Chứng nhận:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
độ tinh khiết:
Độ tinh khiết của silicon tinh thể là 99,999% và độ tinh khiết của Hsi là 99,99%
Tỉ trọng:
2,33 g/cm³
Tên:
Mục tiêu silicon (Si)
Quá trình hình thành:
Phun, thiêu kết, tăng trưởng tinh thể
Thông số sản phẩm:
Mục tiêu phẳng, mục tiêu xoay
Trường ứng dụng:
Sản xuất thiết bị quang học, Sản xuất chất bán dẫn, Sản xuất cảm biến
chi tiết đóng gói:
Đóng gói hút chân không, đóng thùng để bảo quản và vận chuyển
Khả năng cung cấp:
nguồn cung ổn định
Làm nổi bật:

Vật liệu mạ đích Silicon

,

Vật liệu mạ đích độ tinh khiết cao

,

Mục đích Silicon Si

Mô tả sản phẩm

Vật liệu đích Silicon độ tinh khiết cao: Vật liệu cốt cho lắng đọng màng mỏng

Vật liệu đích Silicon được sử dụng trong các quy trình lắng đọng hơi vật lý (PVD), chủ yếu để lắng đọng các lớp trung gian như oxit silicon, nitrua silicon và hydrua silicon. Nó có thể được chia thành các loại silicon tinh thể và HSi. Đích silicon thường có màu xám đậm với vẻ ngoài bán kim loại và mật độ khoảng 2,33 g/cm³. Điểm nóng chảy của silicon là 1414°C và điểm sôi là 3265°C. Silicon có hệ số dẫn nhiệt cao (149 W·m⁻¹·K⁻¹) và khả năng dẫn nhiệt tuyệt vời. Ngoài ra, vật liệu đích silicon có độ cứng tốt, đặc tính quang học, khả năng chống mài mòn và khả năng chống ăn mòn tuyệt vời.

Các đặc tính tuyệt vời của vật liệu đích Silicon:

 

l Độ tinh khiết cao đảm bảo hiệu suất màng mỏng ổn định


Silicon tinh thể có độ tinh khiết 99,999%, trong khi độ tinh khiết HSi là 99,99%

 

 

l Độ đồng đều và mật độ màng mỏng tuyệt vời


Đích silicon có hiệu suất phún xạ cao và tương thích với nhiều thiết bị phủ chân không trong quy trình PVD. Đồng thời, các nguyên tử silicon có độ bám dính tốt với các chất nền phổ biến (như thủy tinh, kim loại, tấm wafer silicon), tạo thành các màng ổn định, không bong tróc, đáp ứng các yêu cầu độ tin cậy cao.

 

 

l Tốc độ phún xạ và độ bám dính tốt


Khả năng dẫn nhiệt tốt của silicon giúp tản nhiệt nhanh chóng khỏi bề mặt đích, ngăn ngừa quá nhiệt cục bộ. Ngoài ra, khả năng dẫn điện của nó rất cần thiết cho quá trình phún xạ từ tính, hỗ trợ lắng đọng màng hiệu quả.

 

 Ứng dụng rộng rãi của vật liệu đích Silicon

 

l Sản xuất thiết bị quang học


Độ tinh khiết cao: Đích silicon đảm bảo độ rõ nét, ổn định và chính xác của các thiết bị quang học, nâng cao hiệu suất và độ tin cậy của chúng. Lớp chống phản xạ và bảo vệ: Trong truyền thông sợi quang và mạch quang tích hợp, màng oxit silicon được sử dụng làm vật liệu dẫn sóng để truyền và xử lý tín hiệu quang.

 

 

l Sản xuất bán dẫn

 

Được sử dụng để chuẩn bị chất nền và vật liệu đóng gói cho đèn LED, cải thiện hiệu suất phát sáng và độ ổn định của đèn LED.

 

 

l Sản xuất cảm biến

 

Được sử dụng trong sản xuất các phần tử cảm biến và mạch xử lý tín hiệu, nâng cao độ nhạy và độ chính xác của cảm biến