Material alvo de pulverização de alta pureza Si alvo para fabricação de semicondutores

Material de Alvo de Silício de Alta Pureza: Material Central para Deposição de Filmes Finos

O material de alvo de silício é usado em processos de deposição física de vapor (PVD), principalmente para depositar camadas intermediárias como óxido de silício, nitreto de silício e hidreto de silício. Pode ser dividido em tipos de silício cristalino e HSi. Os alvos de silício são tipicamente cinza escuro com aparência semimetálica e densidade de cerca de 2,33 g/cm³. O ponto de fusão do silício é 1414°C e seu ponto de ebulição é 3265°C. O silício possui um alto coeficiente de condutividade térmica (149 W·m¹·K¹) e excelente condutividade térmica. Além disso, o material de alvo de silício tem boa dureza, propriedades ópticas, resistência ao desgaste e excelente resistência à corrosão.

Excelentes Propriedades do Material de Alvo de Silício:

Fabricação de Sensores Alta Pureza Garante Desempenho Estável do Filme Fino

O silício cristalino tem uma pureza de 99,999%, enquanto a pureza do HSi é de 99,99%

Fabricação de Sensores Excelente Uniformidade e Densidade do Filme Fino

Os alvos de silício têm alta eficiência de pulverização e são compatíveis com vários equipamentos de revestimento a vácuo no processo PVD. Ao mesmo tempo, os átomos de silício têm boa adesão a substratos comuns (como vidro, metal, wafers de silício), formando filmes estáveis e que não descascam, atendendo a requisitos de alta confiabilidade.

Fabricação de Sensores Boa Taxa de Pulverização e Adesão

A boa condutividade térmica do silício ajuda a dissipar o calor da superfície do alvo rapidamente, evitando superaquecimento local. Além disso, sua condutividade é essencial para a pulverização catódica por magnetron, auxiliando na deposição eficiente de filmes.

 Amplas Aplicações do Material de Alvo de Silício

Fabricação de Sensores Fabricação de Dispositivos Ópticos

Alta Pureza: Alvos de silício garantem a clareza, estabilidade e precisão de dispositivos ópticos, aprimorando seu desempenho e confiabilidade. Camadas antirreflexo e protetoras: Em comunicações por fibra óptica e circuitos ópticos integrados, filmes de dióxido de silício são usados como materiais de guia de onda para transmitir e processar sinais ópticos.l

Fabricação de Sensores Usado para preparar substratos e materiais de encapsulamento para LEDs, proporcionando melhoria na eficiência luminosa e estabilidade dos LEDs.

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Fabricação de Sensores Usado na produção de elementos sensores e circuitos de processamento de sinais, aumentando a sensibilidade e a precisão dos sensores