Material objetivo de pulverización de alta pureza Si objetivo para la fabricación de semiconductores

Material de objetivo de silicio de alta pureza: material central para deposición de película delgada

El material de objetivo de silicio se utiliza en procesos de deposición física de vapor (PVD), principalmente para depositar capas intermedias como óxido de silicio, nitruro de silicio e hidruro de silicio. Se puede dividir en silicio cristalino y tipos HSi. Los objetivos de silicio son típicamente de color gris oscuro con una apariencia semimetálica y una densidad de aproximadamente 2,33 g/cm³. El punto de fusión del silicio es 1414 °C y su punto de ebullición es 3265 °C. El silicio tiene un alto coeficiente de conductividad térmica (149 W·m⁻¹·K⁻¹) y una excelente conductividad térmica. Además, el material de objetivo de silicio tiene buena dureza, propiedades ópticas, resistencia al desgaste y excelente resistencia a la corrosión.

Excelentes propiedades del material de objetivo de silicio:

Fabricación de sensores Alta pureza garantiza un rendimiento estable de la película delgada

El silicio cristalino tiene una pureza del 99,999%, mientras que la pureza HSi es del 99,99%

Fabricación de sensores Excelente uniformidad y densidad de película delgada

Los objetivos de silicio tienen una alta eficiencia de pulverización y son compatibles con diversos equipos de recubrimiento al vacío en el proceso PVD. Al mismo tiempo, los átomos de silicio tienen buena adhesión a sustratos comunes (como vidrio, metal, obleas de silicio), formando películas estables y que no se pelan que cumplen con altos requisitos de fiabilidad.

Fabricación de sensores Buena tasa de pulverización y adhesión

La buena conductividad térmica del silicio ayuda a disipar rápidamente el calor de la superficie del objetivo, evitando el sobrecalentamiento local. Además, su conductividad es esencial para la pulverización catódica magnetrónica, lo que ayuda a una deposición de película eficiente.

 Amplias aplicaciones del material de objetivo de silicio

Fabricación de sensores Fabricación de dispositivos ópticos

Alta pureza: los objetivos de silicio garantizan la claridad, estabilidad y precisión de los dispositivos ópticos, mejorando su rendimiento y fiabilidad. Capas antirreflectantes y protectoras: en comunicaciones de fibra óptica y circuitos ópticos integrados, las películas de dióxido de silicio se utilizan como materiales de guía de ondas para transmitir y procesar señales ópticas.l

Fabricación de sensores Se utiliza para preparar sustratos y materiales de encapsulación para LED, mejorando la eficiencia luminosa y la estabilidad de los LED.

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Fabricación de sensores Se utiliza en la producción de elementos sensores y circuitos de procesamiento de señales, mejorando la sensibilidad y precisión de los sensores