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Einzelheiten zu den Produkten

Created with Pixso. Haus Created with Pixso. Produkte Created with Pixso.
Keramikziele
Created with Pixso. Hochohm-Sputtertarget (GXO Sputtertarget)
Ausführliche Information
Herkunftsort:
China
Zertifizierung:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
Reinheit:
99,99 %
Relative Dichte:
99 %
Name:
Hochbeständige Sputtertargets
Bildungsprozess:
Sintern
Produktspezifikationen:
Planare Ziele, rotierende Ziele, individuell geformte Ziele
Anwendungsfelder:
Photovoltaikindustrie, Automobilglas, Halbleiterherstellung, optische Funktionsfilme
Verpackung Informationen:
Vakuumversiegelte Verpackung, kartonverpackt für Lagerung und Transport
Versorgungsmaterial-Fähigkeit:
Stabile Versorgung
Hervorheben:

GXO Sputtertarget

,

Hochohm-Sputtertarget

,

GXO Sputtertargets

Produkt-Beschreibung

Hochohmige Sputtertargets sind eine Kategorie von funktionellen Targetmaterialien für die Sputterbeschichtung, die sich durch Metall- oder Legierungsmaterialien mit hohem spezifischem Widerstand auszeichnen. Im Physical Vapor Deposition (PVD)-Prozess können hochohmige Sputtertargets hochohmige Dünnschichten bilden, die für Optik, Elektronik, Halbleiter, Funktionsbeschichtungen und andere Bereiche geeignet sind. Durch die Steuerung der Zusammensetzung und Struktur der Targetmaterialien können Dünnschichten mit hohem Widerstand, guter Stabilität und starker Haftung erhalten werden, die die Anforderungen an die Optimierung der Geräteleistung und spezielle Funktionsanforderungen erfüllen.

Hervorragende Eigenschaften von Hochohmige Sputtertargets

 

l Abstimmbarer Widerstand


Der Widerstand der Dünnschicht kann im Bereich von 10⁶–10⁹ Ω mit stabiler Zuverlässigkeit beliebig eingestellt werden.

 

 

l Kontrollierbare Leistung


Eine präzise Steuerung von Widerstand, Lichtdurchlässigkeit oder Dicke kann durch Anpassung der Targetzusammensetzung oder der Prozessparameter erreicht werden, was den Anforderungen verschiedener Anwendungsszenarien gerecht wird.

 

 

l Gute thermische Stabilität


Die Dünnschicht behält eine stabile Leistung in Hochtemperatur- oder Langzeitbetriebsumgebungen bei und ist nicht anfällig für Leitfähigkeitsdegradation oder Rissbildung der Schicht.

 

 

l Hervorragende Filmdichte und Haftung


Die durch hochohmige Sputtertargets abgeschiedene Dünnschicht weist eine dichte und gleichmäßige Struktur auf und haftet fest am Substrat, was die Lebensdauer und Zuverlässigkeit von Geräten erhöht.

 

Breite Anwendungen von Hochohmige Sputtertargets

 

l Photovoltaikindustrie


Hochohmige Dünnschichten werden auf LCDs, OLEDs, Touchscreens oder Dünnschichtsolarzellen abgeschieden, um eine gleichmäßige Widerstandsschicht zu bilden und gleichzeitig eine hohe Lichtdurchlässigkeit zu erhalten, was eine gleichmäßige Displayhelligkeit und eine empfindliche Touch-Reaktion gewährleistet. In Photovoltaikmodulen reduzieren sie den Leckstrom und verbessern die photoelektrische Umwandlungseffizienz.

 

l Automobilglas

 

Als transparente Heizschichten für Windschutzscheiben, Rückspiegel und architektonisches Glas eingesetzt, können hochohmige Schichten schnell und gleichmäßig aufheizen, Glasbeschlag oder Reifbildung verhindern und Sicherheit und Komfort verbessern. Gleichzeitig haben die Schichten eine hohe Lichtdurchlässigkeit, die die Sichtlinie nicht beeinträchtigt.

 

 

 l Halbleiterfertigung


Verwendet als Widerstandsschichten, Pufferschichten oder Isolationsschichten in Sensoren, Mikro-Elektro-Mechanischen Systemen (MEMS) oder integrierten Schaltkreisen, steuern sie präzise die Stromdichte, schützen Geräte vor Schäden durch Überstrom oder Kurzschlüsse und bieten hohe Zuverlässigkeit und Langzeitstabilität.

 

 

l Optische Funktionsschichten


Als funktionale Schichten für optische Filter und Sensoren gewährleisten die gebildeten hochohmigen Dünnschichten eine stabile optische Übertragungs- oder Reflexionsleistung, widerstehen hohen Temperaturen und Umweltveränderungen und verlängern die Lebensdauer optischer Geräte.