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[sputter target bonding ]
Übereinstimmung9
produitsBeschichtungs-Produktionslinie Sputtern Zielbindungsdienst Drehzielbindung
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Sputtering Zielbindung Klebstoffprozess Freundschaftliche Spannungsdämpfung
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Planar Target Bonding Service für PVD-Beschichtungsfeld
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Anpassbarer Größe Chrom-Ziel Dreh- / Flächen-Cr-Sputter-Ziel
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Präzisionswasserkanalsputtern Zielstützplatten Bindungsabhängigkeit > 98%
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Anpassbares Verhältnis Metall Sputtertarget Nickel Vanadium NiV Legierung Target
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990,5% - 99,95% Reinheit Titan Sputter Ziel Korrosionsbeständigkeit Ti Ziel
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Spezialisierung / Planer / Rotary Cu Kupfer Ziel für Sputtering Beschichtung
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Hochdichte W-Wolfram-Target für Metallunterstützung
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