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Beschichtungs-Produktionslinie Sputtern Zielbindungsdienst Drehzielbindung

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Sputtering Zielbindung Klebstoffprozess Freundschaftliche Spannungsdämpfung

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Planar Target Bonding Service für PVD-Beschichtungsfeld

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Anpassbarer Größe Chrom-Ziel Dreh- / Flächen-Cr-Sputter-Ziel

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Präzisionswasserkanalsputtern Zielstützplatten Bindungsabhängigkeit > 98%

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990,5% - 99,95% Reinheit Titan Sputter Ziel Korrosionsbeständigkeit Ti Ziel

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