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Beschichtungs-Produktionslinie Sputtern Zielbindungsdienst Drehzielbindung

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Sputtering Zielbindung Klebstoffprozess Freundschaftliche Spannungsdämpfung

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Chinesische Kupfer-Sputtertargets (Cu-Sputtertargets)

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Silikon-Spruttering-Ziel (Si-Spruttering-Ziel)

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Indium-Zinn-Oxid (ITO)-Sputtertarget

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Wolfram-Sputtertargets (W) für PVD-Beschichtung

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Hochreines Titan-Sputtertarget (Ti-Sputtertarget)

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Chrom-Sputtertarget (Cr-Sputtertarget), Reinheit: 99,5 % - 99,95 %

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Planar Target Bonding Service für PVD-Beschichtungsfeld

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Nickel-Vanadium-Sputtertargets (NiV-Sputtertargets)

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